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Conference on Advanced Microelectronic Processing Techniques, Nov 28-30, 2000, Singapore
Conference on Advanced Microelectronic Processing Techniques, Nov 28-30, 2000, Singapore
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1.
Transmission line measurement of gold contact on the arsenic-ion-implanted GaAs after rapid thermal annealing
机译:
快速热退火后金在砷离子注入的砷化镓上的传输线测量
作者:
Gong-Ru Lin
;
Jui-Lin Chang
会议名称:
《Conference on Advanced Microelectronic Processing Techniques, Nov 28-30, 2000, Singapore》
|
2000年
关键词:
transmission line model;
arsenic-ion-implanted;
hopping;
barrier height;
contact resistance;
sheet resistance;
2.
Ultra Shallow Depth Profiling of B Deltas in Si using a CAMECA IMS 6f
机译:
使用CAMECA IMS 6f对Si中的B增量进行超浅深度剖析
作者:
C. M. Ng
;
A. T. S. Wee
;
C. H. A. Huan
;
A. See
会议名称:
《Conference on Advanced Microelectronic Processing Techniques, Nov 28-30, 2000, Singapore》
|
2000年
关键词:
secondary ion mass spectrometry;
boron deltas;
oxygen flooding;
low energy profiling;
sample rotation;
3.
Tools and Processes for MEMS and Nanotechnology
机译:
MEMS和纳米技术的工具和过程
作者:
P D Prewett
;
S E Huq
;
M C Ward
会议名称:
《Conference on Advanced Microelectronic Processing Techniques, Nov 28-30, 2000, Singapore》
|
2000年
关键词:
MEMS;
nanotechnology;
lithography;
LIGA;
vacuum microelectronics;
4.
Thin film epitaxy on Si for Microelectronics
机译:
用于微电子学的Si上的薄膜外延
作者:
Jing Zhang
;
Eng Soon Tok
;
Guy Breton
;
Nick J Woods
会议名称:
《Conference on Advanced Microelectronic Processing Techniques, Nov 28-30, 2000, Singapore》
|
2000年
关键词:
epitaxy;
MBE;
GSMBE;
silicon;
germanium;
SiGe;
segregation;
MOS;
HBT;
5.
The Use of Sample Rotation in SIMS Profiling of Ta Barrier Layers to Cu Diffusion
机译:
样品旋转在Ta阻挡层对Cu扩散的SIMS分析中的应用
作者:
R. Liu
;
A.T.S. Wee
;
L. Liu
;
G. Hao
会议名称:
《Conference on Advanced Microelectronic Processing Techniques, Nov 28-30, 2000, Singapore》
|
2000年
关键词:
secondary ion mass spectrometry;
sample rotation;
ta barriers;
cu metallization;
6.
The Importance of Oxide Capping on the Suppression of Dopant Outdiffusion for Salicide Block Process
机译:
氧化物封顶对于抑制自对准硅化物过程中掺杂剂向外扩散的重要性
作者:
Hong Liao
;
Soh Yun Siah
;
David Vigar
会议名称:
《Conference on Advanced Microelectronic Processing Techniques, Nov 28-30, 2000, Singapore》
|
2000年
关键词:
oxide capping;
salicide block;
CMOS;
7.
The mechanism of instability on device's characteristics due to inter-metal dielectrics with low-k material and the modified process
机译:
具有低k材料的金属间电介质导致的器件特性不稳定性的机理以及改进的工艺
作者:
J.R. Shih
;
J.C. Hwang
;
R.Y. Shiue
;
H.L. Hwang
;
John Yue
会议名称:
《Conference on Advanced Microelectronic Processing Techniques, Nov 28-30, 2000, Singapore》
|
2000年
关键词:
inter-metal-dielectric (IMD);
back-end-of-line (BEOL);
pure hydrogen;
hot carrier;
8.
Spreading Resistance Profiling of Ultrashallow Junction NPN BJT, with Carrier Redistribution Effect
机译:
具有载流子重分布效应的超浅结NPN BJT的扩展电阻分布图
作者:
Louison Cheng Pheng TAN
;
Leng Seow TAN
;
Mook Seng LEONG
会议名称:
《Conference on Advanced Microelectronic Processing Techniques, Nov 28-30, 2000, Singapore》
|
2000年
关键词:
spreading resistance profiling;
ultrashallow junctions;
carrier redistribution effect;
BJT;
on-bevel junctions;
metallurgical junctions;
dopant profile;
9.
Study of implanted boron distribution in p~+n structures using scanning capacitance microscopy
机译:
使用扫描电容显微镜研究p〜+ n结构中注入的硼分布
作者:
Y. L. Teo
;
K. L. Pey
;
W. K. Chim
;
Y. F. Chong
会议名称:
《Conference on Advanced Microelectronic Processing Techniques, Nov 28-30, 2000, Singapore》
|
2000年
关键词:
scanning capacitance microscopy;
scanning probe microscopy;
dopant profiling;
pn junction;
10.
Low Threshold Current Density and High Quantum Efficiency 980nm CW QW Laser
机译:
低阈值电流密度和高量子效率980nm CW QW激光器
作者:
Karen Lin Ke
;
Soo Jin Chua
;
Wei Jun Fan
会议名称:
《Conference on Advanced Microelectronic Processing Techniques, Nov 28-30, 2000, Singapore》
|
2000年
关键词:
980nm;
quantum well laser;
quantum efficiency;
threshold current density;
InGaAlAs;
ridge waveguide;
optical gain;
spontaneous emission spectrum;
threshold current density;
Er+doped;
11.
Investigation on Near Room Temperature Self-Annealing of Electrochemical Deposited (ECD) Blanket Copper Films
机译:
电化学沉积(ECD)覆盖铜膜的近室温自退火研究
作者:
W.H. Teh
;
L.T. Koh
;
S.M. Chen
;
Joseph Xie
;
C.Y. Li
;
P.D. Foo
会议名称:
《Conference on Advanced Microelectronic Processing Techniques, Nov 28-30, 2000, Singapore》
|
2000年
关键词:
copper metallization;
self-annealing;
AFM;
stress;
sheet resistance;
12.
INFLUENCE OF HIGH SUBSTRATE BIAS VOLTAGE ON THE CHARACTERISTICS OF DLC COATINGS
机译:
高基体偏置电压对DLC涂层特性的影响
作者:
D. Sheeja
;
B.K. Tay
;
S.P. Lau
会议名称:
《Conference on Advanced Microelectronic Processing Techniques, Nov 28-30, 2000, Singapore》
|
2000年
关键词:
diamond-like carbon;
adhesion;
substrate bias;
FCVA technique;
tribology;
hardness;
raman spectroscopy;
13.
Improvement of green emission from Tb~(3+):GdOBr phosphors by Ce~(3+) co-doping
机译:
Ce〜(3+)共掺杂改善Tb〜(3 +):GdOBr荧光粉的绿色发射
作者:
S.D. Cheng
;
C.H. Kam
;
Y.L. Lam
;
K. Pita
;
S. Buddhudu
会议名称:
《Conference on Advanced Microelectronic Processing Techniques, Nov 28-30, 2000, Singapore》
|
2000年
关键词:
Tb~(3+):GdOBr phosphors;
Ce~(3+) co-doping;
enhanced green emission;
14.
InP/InGaAs/InP Double Heterojunction Bipolar Transistors with Improved DC and Microwave Performance Grown by Solid-Source Molecular Beam Epitaxy
机译:
固体源分子束外延生长的具有改善的直流和微波性能的InP / InGaAs / InP双异质结双极晶体管
作者:
H. Wang
;
G. I. Ng
;
H. Q. Zheng
;
K. Radhakrishana
;
S. F. Yoon
;
Y. Z. Xiong
;
L. H. Chua
;
H. Yang
;
S. Haider
;
C. L. Tan
会议名称:
《Conference on Advanced Microelectronic Processing Techniques, Nov 28-30, 2000, Singapore》
|
2000年
关键词:
InP;
InGaAs;
heteroj unction bipolar transistor;
solid-source molecular beam epitaxy;
15.
Impact of Boron Penetration on Gate Oxide Reliability and Device Performance in a Dual Gate Oxide Process
机译:
硼渗透对双栅氧化工艺中栅氧化可靠性和器件性能的影响
作者:
Yunqiang Zhang
;
Chock H. Gan
;
Xia Li
;
James Lee
;
David Vigar
;
Ravi Sundaresan
会议名称:
《Conference on Advanced Microelectronic Processing Techniques, Nov 28-30, 2000, Singapore》
|
2000年
关键词:
gate oxide reliability;
boron penetration;
salicide block;
16.
Effect of deposition conditions on the properties of HDP-CVD fluorinated silicon oxide (SiOF)
机译:
沉积条件对HDP-CVD氟化硅(SiOF)性能的影响
作者:
Y.W. Teh
;
T.K.S. Wong
;
J.L. Sudijono
;
A. See
会议名称:
《Conference on Advanced Microelectronic Processing Techniques, Nov 28-30, 2000, Singapore》
|
2000年
关键词:
fluorinated silicon oxide;
low dielectric constant materials;
multilevel interconnects;
17.
Effect of flash copper on Cu Diffusion
机译:
闪铜对铜扩散的影响
作者:
D. H. Zhang
;
S. W. Loh
;
C. Y. Li
;
R. Liu
;
A. T. S. Wee
;
L. Zhang
;
Y. K. Lee
会议名称:
《Conference on Advanced Microelectronic Processing Techniques, Nov 28-30, 2000, Singapore》
|
2000年
关键词:
rapid thermal annealing;
copper diffusion;
secondary ion mass spectroscopy;
18.
Effect of Surface Conditions on the Measurement of Minority Carrier Diffusion Lengths Using the Surface Photovoltage Technique
机译:
表面条件对使用表面光电压技术测量少数载流子扩散长度的影响
作者:
Zhenhua ZHANG
;
Leng Seow TAN
;
Shee Meng KOH
;
Hong Mei LIU
;
Dirk FLOTTMANN
会议名称:
《Conference on Advanced Microelectronic Processing Techniques, Nov 28-30, 2000, Singapore》
|
2000年
关键词:
minority carrier diffusion length;
surface photovoltage;
laser-microwave photoconductance decay;
19.
Characterisation of Ge nanocrystals in co-sputtered Ge + SiO_2 system Using Raman and TEM techniques
机译:
使用Raman和TEM技术表征共溅射Ge + SiO_2系统中的Ge纳米晶体
作者:
W. C. Tjiu
;
S. P. Ng
;
W. K. Choi
;
V. Ng
;
Y. W. Ho
会议名称:
《Conference on Advanced Microelectronic Processing Techniques, Nov 28-30, 2000, Singapore》
|
2000年
关键词:
HR-TEM;
RTA;
annealing temperature;
ge;
SiO_2;
20.
Characterization of Si-doped GaInAsP/GaAs grown by solid source molecular beam epitaxy
机译:
固体源分子束外延生长Si掺杂的GaInAsP / GaAs的表征
作者:
D. H. Zhang
;
X. Z. Wang
;
H. Q. Zheng
;
S. F. Yoon
;
C. H. Kam
会议名称:
《Conference on Advanced Microelectronic Processing Techniques, Nov 28-30, 2000, Singapore》
|
2000年
关键词:
solid source molecular beam epitaxy;
raman spectroscopy;
doping;
21.
Behavior of Ta thin film as a diffusion barrier in the Cu/barrier/SiO_2 system
机译:
Ta薄膜在Cu / barrier / SiO_2体系中作为扩散阻挡层的行为
作者:
J. S. Pan
;
A. T. S. Wee
;
C. H. A. Huan
;
J. W. Chai
会议名称:
《Conference on Advanced Microelectronic Processing Techniques, Nov 28-30, 2000, Singapore》
|
2000年
关键词:
XPS;
AES;
XRD;
ta thin film;
diffusion barrier;
cu metallization;
22.
Application of excimer laser annealing in the formation of ultra-shallow p~+ junctions
机译:
准分子激光退火在超浅p〜+ / n结形成中的应用
作者:
Y. F. Chong
;
K. L. Pey
;
A. T. S. Wee
;
A. See
;
C. -H. Tung
;
R. Gopalakrishnan
;
Y. F. Lu
会议名称:
《Conference on Advanced Microelectronic Processing Techniques, Nov 28-30, 2000, Singapore》
|
2000年
关键词:
ultra-shallow junction;
ultra-low energy ion implantation;
rapid thermal annealing;
excimer laser annealing;
23.
Analysis of N-channel transistor punch through related to STI process
机译:
与STI工艺相关的N沟道晶体管穿通分析
作者:
Yunqiang Zhang
;
James Lee
;
Chock H. Gan
;
David Vigar
;
Ravi Sundaresan
会议名称:
《Conference on Advanced Microelectronic Processing Techniques, Nov 28-30, 2000, Singapore》
|
2000年
关键词:
shallow trench isolation;
punch through leakage;
mechanical stress;
24.
An advanced integrated process and ESD protection structure to optimize the GOI, HCE and ESD performance for sub-quarter micron technology
机译:
先进的集成工艺和ESD保护结构可优化四分之一微米技术的GOI,HCE和ESD性能
作者:
J.R. Shih
;
J.H. Lee
;
H.L. Hwang
会议名称:
《Conference on Advanced Microelectronic Processing Techniques, Nov 28-30, 2000, Singapore》
|
2000年
关键词:
ESD (electro-static discharge);
snapback voltage;
gate oxide integrity (GOI);
25.
The 1.54 μm erbium luminescence in silicon-germanium
机译:
硅锗中的1.54μmlu发光
作者:
M. Q. Huda
;
M. S. Islam
会议名称:
《Conference on Advanced Microelectronic Processing Techniques, Nov 28-30, 2000, Singapore》
|
2000年
关键词:
erbium;
silicon-germanium;
excitation;
luminescence;
shockley-read-hall;
26.
Plasma removal of post-RIE residues for dual damascene processing
机译:
等离子体去除后RIE残留物以进行双镶嵌处理
作者:
Vladimir N. Bliznetsov
;
Jo Woo Min
会议名称:
《Conference on Advanced Microelectronic Processing Techniques, Nov 28-30, 2000, Singapore》
|
2000年
关键词:
damascene;
reactive ion etching;
photoresist stripping;
selectivity;
sidewall polymer;
27.
Pseudomorphic In_xGa_(l-x)As/In_yAl_(l-y)As high electron mobility transistor structures grown by solid source molecular beam epitaxy
机译:
固体源分子束外延生长的拟态In_xGa_(l-x)As / In_yAl_(l-y)As高电子迁移率晶体管结构
作者:
H. Q. Zheng
;
K. Radahakrishnan
;
S. F. Yoon
;
G. I. Ng
会议名称:
《Conference on Advanced Microelectronic Processing Techniques, Nov 28-30, 2000, Singapore》
|
2000年
关键词:
InGaAs/InAlAs;
HEMT;
SSMBE;
XRD;
hall;
28.
Self-organized growth of InP on GaAs substrate by MOCVD
机译:
MoCVD在GaAs衬底上自组织生长InP
作者:
Benzhong Wang
;
Soo-Jin Chua
会议名称:
《Conference on Advanced Microelectronic Processing Techniques, Nov 28-30, 2000, Singapore》
|
2000年
关键词:
quantum dots;
type-II band lineup;
photoluminescence;
self-organized growth;
MOCVD;
29.
Luminescence Properties of Nd~(3+)doped LiNbO_3 LiTaO_3 sol-gel powders
机译:
Nd〜(3+)掺杂LiNbO_3和LiTaO_3溶胶-凝胶粉末的发光特性
作者:
S.D. Cheng
;
C.H. Kam
;
Y.L. Lam
;
K. Pita
;
S. Buddhudu
会议名称:
《Conference on Advanced Microelectronic Processing Techniques, Nov 28-30, 2000, Singapore》
|
2000年
关键词:
Nd~(3+):LiNbO_3;
Nd~(3+):LiTaO_3;
up-conversion;
sol-gel;
30.
High Microwave Performance of InGaP/GaAs HBT with beryllium doped base grown by solid-source MBE
机译:
固态源MBE掺杂铍掺杂的InGaP / GaAs HBT的高微波性能
作者:
Pan Yang
;
Zheng Haiqun
;
Chua Lye Heng
;
Xiong Yongzhong
;
Wang Hong
;
K. Radhakrishnan
;
Yoon Soon Fatt
;
Ng Geok Ing
会议名称:
《Conference on Advanced Microelectronic Processing Techniques, Nov 28-30, 2000, Singapore》
|
2000年
关键词:
heterojunction bipolar transistor;
InGaP/GaAs;
MBE;
microwave;
beryllium;
31.
Epitaxial CoSi_2 on Si(100) by Oxide Mediated Epitaxy
机译:
氧化物介导外延在Si(100)上外延CoSi_2
作者:
M.W. Kleinschmit
;
M. Yeadon
;
J.M. Gibson
会议名称:
《Conference on Advanced Microelectronic Processing Techniques, Nov 28-30, 2000, Singapore》
|
2000年
关键词:
oxide-mediated epitaxy;
in-situ;
TEM;
Si(001);
CoSi_2;
diffusion barrier;
epitaxial;
thin film;
front end process;
32.
Effects of Zn doping in the substrate on the quantum well intermixing in GaAs/Al_(0.24)Ga_(0.76)As single quantum well structures
机译:
衬底中Zn掺杂对GaAs / Al_(0.24)Ga_(0.76)As单量子阱结构中量子阱混合的影响
作者:
Feng Zhao
;
In W. Choi
;
Peter Hing
;
Shu Yuan
;
Teik K. Ong
;
Boon. S. Ooi
;
Jian Jiang
;
Michael C. Y. Chan
;
Charles Surya
;
E. H. Li
会议名称:
《Conference on Advanced Microelectronic Processing Techniques, Nov 28-30, 2000, Singapore》
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2000年
关键词:
quantum well intermixing;
GaAs/AlGaAs;
Zn-doped substrate;
rapid thermal annealing;
photoluminescence;
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