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International Symposium on EUV Lithography 2001, Oct, 2001
International Symposium on EUV Lithography 2001, Oct, 2001
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1.
Computer Controlled Polishing of the Off-axis Aspheric Mirrors
机译:
离轴非球面镜的计算机控制抛光
作者:
ZHANG Xue-jun
会议名称:
《International Symposium on EUV Lithography 2001, Oct, 2001》
|
2001年
2.
EUV Optical Design-Reflective and Diffractive Optics
机译:
EUV光学设计-反射和衍射光学
作者:
Takeshi Namioka
会议名称:
《International Symposium on EUV Lithography 2001, Oct, 2001》
|
2001年
3.
Chinese Academic Journal(CAJ-CD) International Version Starts to be Published for Overseas
机译:
《中国学术期刊》(CAJ-CD)国际版开始在海外发行
会议名称:
《International Symposium on EUV Lithography 2001, Oct, 2001》
|
2001年
4.
Development of Debris-free Laser Plasma Sources for EUV Lithography in CIOMP
机译:
CIOMP中用于EUV光刻的无碎片激光等离子体源的开发
作者:
CHEN Bo
会议名称:
《International Symposium on EUV Lithography 2001, Oct, 2001》
|
2001年
5.
Present Status of EUV Interferometer Development at the Research Center for Soft X-ray Microscopy
机译:
EUV干涉仪在软X射线显微镜研究中心的发展现状
作者:
Masaki Yamamoto
;
Tadashi Hatano
;
Minaji Furudate
会议名称:
《International Symposium on EUV Lithography 2001, Oct, 2001》
|
2001年
关键词:
soft X-ray interferometers;
multilayer mirrors;
figure error;
imaging optics;
6.
Research and Application of MEMS Technique at BSRF
机译:
BSRF MEMS技术的研究与应用
作者:
YI Fu-ting
;
PENG Liang-qiang
;
ZHANG Ju-fang
;
HAN Yong
;
XIAN Ding-chang
会议名称:
《International Symposium on EUV Lithography 2001, Oct, 2001》
|
2001年
关键词:
LIGA;
MEMS;
microfabrication;
microsystems;
7.
Optical Design for the Off ― axis Reflective Optics with Wide Field
机译:
宽轴离轴反射光学器件的光学设计
作者:
ZHANG Xin
;
CHANG Jim
;
WENG Zhi-cheng
;
JIANG Hui-lin
;
CONG Xiaojie
;
LU Yong-jun
会议名称:
《International Symposium on EUV Lithography 2001, Oct, 2001》
|
2001年
关键词:
optical design;
off-axis reflective optics;
space optics;
EUVL;
8.
Manufacturing of Lightweight Mirror
机译:
轻型镜制造
作者:
XIE Jing-jiang
;
SONG Shu-mei
;
WU Qing-wen
;
HE Xin
会议名称:
《International Symposium on EUV Lithography 2001, Oct, 2001》
|
2001年
关键词:
lightweight mirrors;
polishing;
optical testing;
9.
Development of DWDM Filter Manufacture
机译:
DWDM过滤器制造的发展
作者:
MIAO Tong-qun
;
JIN Nan-shan
;
ZHOU Fang-che
;
QIAN Long-sheng
会议名称:
《International Symposium on EUV Lithography 2001, Oct, 2001》
|
2001年
关键词:
thin films;
optical coating;
narrow―band filters;
DWDM;
10.
Current Status of Extreme Ultraviolet Lithography in Japan
机译:
日本极紫外光刻技术的现状
作者:
Kazuya Ota
;
Iwao Nishiyama
;
Taro Ogawa
;
Ei Yano
;
Shinji Okazaki
会议名称:
《International Symposium on EUV Lithography 2001, Oct, 2001》
|
2001年
关键词:
ultraviolet lithography;
aspherical mirrors;
alignment systems;
11.
Current Status of EUV Lithography
机译:
EUV光刻技术的现状
作者:
Hiroo Kinoshita
会议名称:
《International Symposium on EUV Lithography 2001, Oct, 2001》
|
2001年
关键词:
EUV lithography;
aspherical mirrors;
multilayer coatings;
12.
Computer Controlled Polishing of the Off ― axis Aspheric Mirrors
机译:
离轴非球面镜的计算机控制抛光
作者:
ZHANG Xue-jun
;
WENG Zhi-cheng
;
ZHANG Zhong-yu
;
WANG Quan-dou
;
ZHANG Feng
会议名称:
《International Symposium on EUV Lithography 2001, Oct, 2001》
|
2001年
关键词:
asphere;
computer―controlled polishing;
optical testing;
13.
Binary Laser Direct Writing System and Its Applications
机译:
二进制激光直写系统及其应用
作者:
LI Feng-you
;
LU Zhen-wu
;
XIE Yong-jun
;
ZHANG Dian-wen
会议名称:
《International Symposium on EUV Lithography 2001, Oct, 2001》
|
2001年
关键词:
laser direct writing systems;
diffractive optical elements (DOE);
photolithography;
14.
Synchrotron Radiation Lithography and MEMS Technique at NSRL
机译:
NSRL的同步辐射光刻和MEMS技术
作者:
LIU Gang
;
TIAN Yang-chao
会议名称:
《International Symposium on EUV Lithography 2001, Oct, 2001》
|
2001年
关键词:
synchrotron radiation lithography (SRL);
MEMS;
microreactors;
15.
EUV Optical Design ― Reflective and Diffractive Optics
机译:
EUV光学设计-反射和衍射光学
作者:
Takeshi Namioka
会议名称:
《International Symposium on EUV Lithography 2001, Oct, 2001》
|
2001年
关键词:
optical design;
ray-tracing;
optical systems;
16.
Research on Reaction-bonded SiC for Optical Application
机译:
光学应用反应结合SiC的研究
作者:
WANG Jun-lin
;
XU Chang-shan
会议名称:
《International Symposium on EUV Lithography 2001, Oct, 2001》
|
2001年
关键词:
ultrasonic treatment;
green body;
reaction bonding;
float polishing;
infiltrating;
17.
Geometric Theory for the Design of Multielement Optical Systems
机译:
多元光学系统设计的几何理论
作者:
Takeshi Namioka
;
Masato Koike
;
Shin Masui
会议名称:
《International Symposium on EUV Lithography 2001, Oct, 2001》
|
2001年
关键词:
optical systems;
geometry;
ray-tracing;
18.
Development of an Experimental EUVL System
机译:
实验性EUVL系统的开发
作者:
JIN Chun-shui
;
MA Yue-ying
;
PEI Shu
;
CAO Jian-lin
会议名称:
《International Symposium on EUV Lithography 2001, Oct, 2001》
|
2001年
关键词:
extreme ultraviolet projection lithography;
multilayer reflectors;
schwarzschild optics;
19.
Development of Debris ― free Laser Plasma Sources for EUV Lithography in CIOMP
机译:
在CIOMP中开发EUV光刻的无碎片激光等离子体源
作者:
CHEN Bo
;
NI QI-liang
;
CAO Jian-lin
会议名称:
《International Symposium on EUV Lithography 2001, Oct, 2001》
|
2001年
关键词:
EUV lithography;
laser plasma;
debris ― free;
cryogenic target;
gas ― puff target;
20.
Thermal Diffusion of Si Atoms at the Interface of Mo/Si Bilayers Studied with a Soft X-ray Emission Microscope
机译:
用软X射线发射显微镜研究Mo / Si双层界面处Si原子的热扩散
作者:
Yoshitaka SHITANI
;
Noboru MIYATA
;
Mihiro YANAGIHARA
;
Makoto WATANABE
会议名称:
《International Symposium on EUV Lithography 2001, Oct, 2001》
|
2001年
关键词:
multilayer films;
thermal diffusion;
soft X-ray emission microscope;
21.
Thermal Diffusion of Si Atoms at the Interface of Mo/Si Bilayers Studied with a Soft X-ray Emissi on Microscope
机译:
硅原子在Mo / Si双层界面上的热扩散,在显微镜下研究软X射线发射
作者:
Yoshitaka SHITANI
会议名称:
《International Symposium on EUV Lithography 2001, Oct, 2001》
|
2001年
22.
Optical Design for the Off-axis Reflective Optics with Wide Field
机译:
宽场离轴反射光学器件的光学设计
作者:
ZHANG Xin
会议名称:
《International Symposium on EUV Lithography 2001, Oct, 2001》
|
2001年
23.
Current Stares of Extreme Ultraviolet Lithography in Japan
机译:
日本目前的极紫外光刻技术
作者:
Kazuya Ota
会议名称:
《International Symposium on EUV Lithography 2001, Oct, 2001》
|
2001年
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