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1.
Integrated deposition of TiN barrier layers in cluster tools
机译:
集群工具中TiN阻挡层的集成沉积
作者:
J.P. Seidel
;
Balzers AG
;
Balzers
;
Liechtenstein
;
W.Wachter
;
Balzers AG
;
Balzers
;
Liechtenstein
;
William M. Triggs
;
Materials Research Corp.
;
Phoenix
;
AZ
;
USA
;
Robert P. Hall
;
Balzers
;
Phoenix
;
AZ
;
USA.
会议名称:
《Process Module Metrology, Control and Clustering》
|
1991年
2.
Tessellated probe as an aid to process development
机译:
镶嵌式探针有助于工艺开发
作者:
Neil M. Benjamin
;
Lucas Labs.
;
Fremont
;
CA
;
USA
;
K.R. Krieg
;
Lucas Labs.
;
Sunnyvale
;
CA
;
USA
;
Gaylen T. Grover
;
Lucas Labs.
;
Sunnyvale
;
CA
;
USA.
会议名称:
《Process Module Metrology, Control and Clustering》
|
1991年
3.
Single-wafer high-pressure oxidation
机译:
单晶圆高压氧化
作者:
Charles A. Boitnott
;
GaSonics/IPC
;
San Jose
;
CA
;
USA
;
David R. Craven
;
GaSonics/IPC
;
San Jose
;
CA
;
USA.
会议名称:
《Process Module Metrology, Control and Clustering》
|
1991年
4.
Raman scattering as an in-situ optical diagnostic
机译:
拉曼散射作为原位光学诊断
作者:
Irving P. Herman
;
Columbia Univ.
;
New York
;
NY
;
USA.
会议名称:
《Process Module Metrology, Control and Clustering》
|
1991年
5.
Optical emission spectroscopy as a process monitor for triod ion plating with TiN
机译:
光学发射光谱作为TiN进行三重离子电镀的过程监控器
作者:
Mohamed Boumerzoug
;
McMaster Univ.
;
Hamilton
;
Ontario
;
Canada
;
Peter Mascher
;
McMaster Univ.
;
Hamilton
;
Ontario
;
Canada
;
Douglas R. Nagy
;
Liburdi Engineering Ltd.
;
Hamilton
;
Ontario
;
Canada.
会议名称:
《Process Module Metrology, Control and Clustering》
|
1991年
6.
Novel microspot dielectric film thickness measurement system
机译:
新型微点电介质膜厚度测量系统
作者:
David L. Willenborg
;
Therma-Wave
;
Inc.
;
Fremont
;
CA
;
USA
;
Susan M. Kelso
;
Therma-Wave
;
Inc.
;
Fremont
;
CA
;
USA
;
Jon L. Opsal
;
Therma-Wave
;
Inc.
;
Fremont
;
CA
;
USA
;
Jeffrey T. Fanton
;
Therma-Wave
;
Inc.
;
Fremont
;
CA
;
USA
;
Allan Rosencwaig
;
Therma-Wave
;
Inc.
会议名称:
《Process Module Metrology, Control and Clustering》
|
1991年
7.
On-line process-model-based control of a plasma etcher
机译:
基于在线过程模型的等离子刻蚀机控制
作者:
Michael E. Parten
;
Texas Tech Univ.
;
Lubbock
;
TX
;
USA
;
R.R. Rhinehart
;
Texas Tech Univ.
;
Lubbock
;
TX
;
USA
;
Vikram Singh
;
Texas Tech Univ.
;
Lubbock
;
TX
;
USA.
会议名称:
《Process Module Metrology, Control and Clustering》
|
1991年
8.
Open-loop predictive control of plasma etching of tungsten using an in-situ film thickness sensor
机译:
使用原位膜厚传感器对钨的等离子蚀刻进行开环预测控制
作者:
Jerry A. Stefani
;
Texas Instruments Inc.
;
Richardson
;
TX
;
USA
;
Keith J. Brankner
;
Texas Instruments Inc.
;
Dallas
;
TX
;
USA
;
Rhett B. Jucha
;
Texas Instruments Inc.
;
Dallas
;
TX
;
USA
;
William T. Pu
;
Texas Instruments Inc.
;
Dallas
;
TX
;
USA
;
Mark A. Graas
;
Texa
会议名称:
《Process Module Metrology, Control and Clustering》
|
1991年
9.
Moss-Burstein shift in infrared materials under different physical conditions
机译:
不同物理条件下红外材料的莫斯-伯斯坦位移
作者:
Kamakhya P. Ghatak
;
Jadavpur Univ.
;
Calcutta
;
West Bengal
;
India.
会议名称:
《Process Module Metrology, Control and Clustering》
|
1991年
10.
Application of chemometrics to optical emission spectroscopy for plasmamonitoring,
机译:
化学计量学在等离子监测的光发射光谱学中的应用,
作者:
Michael P. Splichal
;
Univ. of New Mexico
;
Albuquerque
;
NM
;
USA
;
Harold M. Anderson
;
Univ. of New Mexico
;
Albuquerque
;
NM
;
USA.
会议名称:
《Process Module Metrology, Control and Clustering》
|
1991年
11.
In-situ diagnostics monitoring and metrology
机译:
现场诊断监控和计量
作者:
Glenn Engel
;
Drytek Inc.
;
Santa Clara
;
CA
;
USA
;
Pat Solomon
;
Drytek Inc.
;
Santa Clara
;
CA
;
USA.
会议名称:
《Process Module Metrology, Control and Clustering》
|
1991年
12.
In-situ film thickness measurements for real-time monitoring and control of advanced photoresist track coating systems
机译:
原位膜厚测量,用于高级光刻胶轨道涂覆系统的实时监视和控制
作者:
Thomas E. Metz
;
SC Technology
;
Inc.
;
Livermore
;
CA
;
USA
;
Richard N. Savage
;
SC Technology
;
Inc.
;
Livermore
;
CA
;
USA
;
Horace O. Simmons
;
SC Technology
;
Inc.
;
Livermore
;
CA
;
USA.
会议名称:
《Process Module Metrology, Control and Clustering》
|
1991年
13.
In-situ monitoring of DC saddle-field plasma-assisted deposition of amorphous silicon and silicon nitride
机译:
原位监测直流鞍形等离子体辅助非晶硅和氮化硅的沉积
作者:
Roman V. Kruzelecky
;
McMaster Univ.
;
Hamilton
;
Ontario
;
Canada
;
Mohamed Boumerzoug
;
McMaster Univ.
;
Hamilton
;
Ontario
;
Canada
;
Peter Mascher
;
McMaster Univ.
;
Hamilton
;
Ontario
;
Canada
;
Milton Harry
;
Univ. of Toronto
;
Toronto
;
Ontario
;
Canada
;
Stefan Zukot
会议名称:
《Process Module Metrology, Control and Clustering》
|
1991年
14.
Infrared diode laser and laser-induced fluorescence diagnostics of an electron cyclotron resonance plasma etching tool
机译:
电子回旋共振等离子体刻蚀工具的红外二极管激光器和激光诱导的荧光诊断
作者:
Robert C. Woods
;
Univ. of Wisconsin/Madison
;
Madison
;
WI
;
USA
;
R.L. McClain
;
Univ. of Wisconsin/Madison
;
Madison
;
WI
;
USA
;
L.J. Mahoney
;
Univ. of Wisconsin/Madison
;
Madison
;
WI
;
USA
;
E.A. Den Hartog
;
Univ. of Wisconsin/Madison
;
Madison
;
WI
;
USA
;
H.Persing
会议名称:
《Process Module Metrology, Control and Clustering》
|
1991年
15.
Infrared diagnostics for semiconductor process monitoring
机译:
用于半导体过程监控的红外诊断
作者:
James A. ONeill
;
IBM/East Fishkill Facility
;
Hopewell Junction
;
NY
;
USA.
会议名称:
《Process Module Metrology, Control and Clustering》
|
1991年
16.
Effects of feature edges on thickness readings of thin oxides
机译:
特征边缘对薄氧化物厚度读数的影响
作者:
Jon L. Opsal
;
Therma-Wave
;
Inc.
;
Fremont
;
CA
;
USA
;
David L. Willenborg
;
Therma-Wave
;
Inc.
;
Fremont
;
CA
;
USA
;
Jeffrey T. Fanton
;
Therma-Wave
;
Inc.
;
Fremont
;
CA
;
USA
;
Susan M. Kelso
;
Therma-Wave
;
Inc.
;
Fremont
;
CA
;
USA
;
Jim P. Simmons
;
Therma-Wave
;
Inc.
;
Fr
会议名称:
《Process Module Metrology, Control and Clustering》
|
1991年
17.
Equipment improvement methodology
机译:
设备改进方法
作者:
Kevin Lally
;
SEMATECH/Texas Instruments Inc.
;
Dallas
;
TX
;
USA.
会议名称:
《Process Module Metrology, Control and Clustering》
|
1991年
18.
Electrical characterization of rf plasmas
机译:
射频等离子体的电学表征
作者:
Paul A. Miller
;
Sandia National Labs.
;
Albuquerque
;
NM
;
USA.
会议名称:
《Process Module Metrology, Control and Clustering》
|
1991年
19.
Benefits of cluster tool architecture for implementation of evolutionary equipment improvements and a
机译:
集群工具架构对实施演进式设备改进的好处以及
作者:
Brad Hansen
;
Applied Materials
;
Inc.
;
Santa Clara
;
CA
;
USA.
会议名称:
《Process Module Metrology, Control and Clustering》
|
1991年
20.
Application of artificial neural networks to real-time control of plasma processes
机译:
人工神经网络在等离子体过程实时控制中的应用
作者:
Author(s): Daniel S. Camporese Techware Systems Corp. Richmond British Columbia Canada.
会议名称:
《Process Module Metrology, Control and Clustering》
|
1991年
21.
Application of adaptive equipment models to a photolithographic process
机译:
自适应设备模型在光刻工艺中的应用
作者:
Author(s): Bart J. Bombay Univ. of California/Berkeley Berkeley CA USA
;
Costas J. Spanos Univ. of California/Berkeley Berkeley CA USA.
会议名称:
《Process Module Metrology, Control and Clustering》
|
1991年
22.
VLSI process expert diagnostic system
机译:
VLSI过程专家诊断系统
作者:
Michael E. Parten
;
Texas Tech Univ.
;
Lubbock
;
TX
;
USA
;
Robert F. Tyson
;
Texas Tech Univ.
;
Lubbock
;
TX
;
USA
;
Atindra Mitra
;
Texas Tech Univ.
;
Lubbock
;
TX
;
USA
;
Jerry Lovelace
;
Texas Instruments Inc.
;
Lubbock
;
TX
;
USA.
会议名称:
《Process Module Metrology, Control and Clustering》
|
1991年
23.
Time-resolved study of excimer laser ablation of thin organic films from a metal surface
机译:
准分子激光烧蚀金属表面有机薄膜的时间分辨研究
作者:
Stephan Herminghaus
;
Univ. Konstanz
;
Konstanz
;
Federal Republic of Germany
;
Paul Leiderer
;
Univ. Konstanz
;
Konstanz
;
Federal Republic of Germany.
会议名称:
《Process Module Metrology, Control and Clustering》
|
1991年
24.
Photoemission from periodic structure of graded superlattices under magnetic field
机译:
磁场下梯度超晶格周期结构的光发射
作者:
Kamakhya P. Ghatak
;
Jadavpur Univ.
;
Calcutta
;
West Bengal
;
India.
会议名称:
《Process Module Metrology, Control and Clustering》
|
1991年
25.
Particle spatial distributions in low-pressure discharges
机译:
低压放电中的颗粒空间分布
作者:
John E. Daugherty
;
Univ. of California/Berkeley
;
Berkeley
;
CA
;
USA
;
M.D. Kilgore
;
Univ. of California/Berkeley
;
Berkeley
;
CA
;
USA
;
David B. Graves
;
Univ. of California/Berkeley
;
Berkeley
;
CA
;
USA.
会议名称:
《Process Module Metrology, Control and Clustering》
|
1991年
26.
Open architecture cluster tool: communication and user interface integration
机译:
开放架构集群工具:通信和用户界面集成
作者:
Fred Wong
;
Rapro Technology Inc.
;
Fremont
;
CA
;
USA
;
George E. Zilberman
;
Rapro Technology Inc.
;
Fremont
;
CA
;
USA.
会议名称:
《Process Module Metrology, Control and Clustering》
|
1991年
27.
Optical characterization of thin film laser deposition processes
机译:
薄膜激光沉积工艺的光学表征
作者:
Peter K. Schenck
;
National Institute of Standards
;
Technology
;
Gaithersburg
;
MD
;
USA
;
David W. Bonnell
;
National Institute of Standards
;
Technology
;
Gaithersburg
;
MD
;
USA
;
John W. Hastie
;
National Institute of Standards
;
Technology
;
Gaithersburg
;
MD
;
USA
;
La
会议名称:
《Process Module Metrology, Control and Clustering》
|
1991年
28.
Adaptive photolithography control using development time manipulation
机译:
使用显影时间操纵的自适应光刻控制
作者:
Robert A. Soper
;
Univ. of California/Santa Barbara
;
Santa Barbara
;
CA
;
USA
;
Duncan A. Mellichamp
;
Univ. of California/Santa Barbara
;
Santa Barbara
;
CA
;
USA
;
Dale E. Seborg
;
Univ. of California/Santa Barbara
;
Santa Barbara
;
CA
;
USA.
会议名称:
《Process Module Metrology, Control and Clustering》
|
1991年
29.
Mass spectrometric and optical emission diagnostics for rf plasma reactors
机译:
射频等离子体反应器的质谱和光发射诊断
作者:
James K. Olthoff
;
National Institute of Standards
;
Technology
;
Gaithersburg
;
MD
;
USA
;
James R. Roberts
;
National Institute of Standards
;
Technology
;
Gaithersburg
;
MD
;
USA
;
R.J. Van Brunt
;
National Institute of Standards
;
Technology
;
Gaithersburg
;
MD
;
USA
;
Ja
会议名称:
《Process Module Metrology, Control and Clustering》
|
1991年
30.
Light scattering methods for semiconductor process monitoring and control
机译:
用于半导体过程监控的光散射方法
作者:
Richard A. Gottscho
;
ATT Bell Labs.
;
Murray Hill
;
NJ
;
USA
;
M.F. Vernon
;
ATT Bell Labs.
;
New Providence
;
NJ
;
USA
;
Jeffrey A. Gregus
;
ATT Bell Labs.
;
Murray Hill
;
NJ
;
USA
;
E.Yoon
;
ATT Bell Labs.
;
New Providence
;
NJ
;
USA
;
K.P. Giapis
;
ATT Bell Labs.
;
Ne
会议名称:
《Process Module Metrology, Control and Clustering》
|
1991年
31.
Learning opportunities through the use of cluster tools,
机译:
通过使用集群工具学习机会,
作者:
Thomas E. Seidel
;
SEMATECH
;
Austin
;
TX
;
USA
;
Michael R. Stark
;
SEMATECH
;
Albuquerque
;
NM
;
USA.
会议名称:
《Process Module Metrology, Control and Clustering》
|
1991年
32.
Ion velocity distributions in electron cyclotron resonance plasmas
机译:
电子回旋共振等离子体中的离子速度分布
作者:
Richard A. Gottscho
;
ATT Bell Labs.
;
Murray Hill
;
NJ
;
USA
;
Toshiki Nakano
;
National Defense Academy
;
Yokusuka
;
Japan
;
Nader Sadeghi
;
Univ. Joseph Fourier
;
CNRS
;
Grenoble
;
France
;
Dennis J. Trevor
;
ATT Bell Labs.
;
New Providence
;
NJ
;
USA
;
R.W. Boswell
;
Au
会议名称:
《Process Module Metrology, Control and Clustering》
|
1991年
33.
In-situ monitoring of semiconductor wafer temperature using infrared interferometry
机译:
使用红外干涉仪原位监测半导体晶圆温度
作者:
C.F. van Os
;
Lucas Labs.
;
Sunnyvale
;
CA
;
USA
;
Brian N. Chapman
;
Lucas Labs.
;
Sunnyvale
;
CA
;
USA.
会议名称:
《Process Module Metrology, Control and Clustering》
|
1991年
34.
In-process thin film thickness measurement and control
机译:
制程中薄膜厚度的测量与控制
作者:
Steven A. Henck
;
Texas Instruments Inc.
;
Plano
;
TX
;
USA.
会议名称:
《Process Module Metrology, Control and Clustering》
|
1991年
35.
High-resolution surface plasmon measurements: a sensitive probe for thickness and structural information of ultrathin films
机译:
高分辨率表面等离子体激元测量:灵敏的探针,可检测超薄膜的厚度和结构信息
作者:
Uwe Albrecht
;
Univ. Konstanz
;
Konstanz
;
Federal Republic of Germany
;
H.Dilger
;
Univ. Konstanz
;
Konstanz
;
Federal Republic of Germany
;
P.Evers
;
Univ. Konstanz
;
Konstanz
;
Federal Republic of Germany
;
Paul Leiderer
;
Univ. Konstanz
;
Konstanz
;
Federal Republic
会议名称:
《Process Module Metrology, Control and Clustering》
|
1991年
36.
Etch process characterization using neural network methodology: a case study
机译:
使用神经网络方法进行蚀刻工艺表征:一个案例研究
作者:
Michael T. Mocella
;
DuPont Electronics
;
Wilmington
;
DE
;
USA
;
James A. Bondur
;
Applied Materials
;
Inc.
;
Chatsworth
;
CA
;
USA
;
Terry R. Turner
;
SEMATECH
;
Austin
;
TX
;
USA.
会议名称:
《Process Module Metrology, Control and Clustering》
|
1991年
37.
Dynamic design processing of integrated circuits for an 'on target' end product
机译:
“目标”终端产品集成电路的动态设计处理
作者:
Renate Sitte
;
Griffith Univ.
;
Nathan
;
Brisbane
;
Queensland
;
Australia
;
Sima Dimitrijev
;
Griffith Univ.
;
Nathan
;
Brisbane
;
Queensland
;
Australia
;
H.B. Harrison
;
Griffith Univ.
;
Nathan
;
Brisbane
;
Queensland
;
Australia.
会议名称:
《Process Module Metrology, Control and Clustering》
|
1991年
38.
Cluster tool technology
机译:
集群工具技术
作者:
John R. Hauser
;
North Carolina State Univ.
;
Raleigh
;
NC
;
USA
;
Syed A. Rizvi
;
Semiconductor Research Corp.
;
Buffalo
;
NY
;
USA.
会议名称:
《Process Module Metrology, Control and Clustering》
|
1991年
39.
Categories of process variables: robustness optimization uniformity tuning and mean adjustment
机译:
过程变量的类别:鲁棒性优化,均匀性调整和均值调整
作者:
Sungdo Ha
;
Massachusetts Institute of Technology
;
Cambridge
;
MA
;
USA
;
Emanuel Sachs
;
Massachusetts Institute of Technology
;
Cambridge
;
MA
;
USA.
会议名称:
《Process Module Metrology, Control and Clustering》
|
1991年
40.
Application of thermal imaging methodology for plasma etching diagnosis
机译:
热成像方法在等离子体刻蚀诊断中的应用
作者:
Author(s): Vipulkumar K. Patel New Jersey Institute of Technology Newark NJ USA
;
Walter F. Kosonocky New Jersey Institute of Technology Newark NJ USA
;
S.Ayyagari New Jersey Institute of Technology Newark NJ USA
;
Mehul Patel New Jersey Institu
会议名称:
《Process Module Metrology, Control and Clustering》
|
1991年
41.
Application of optical emission diagnostics and control related to semiconductor processing
机译:
与半导体加工相关的光发射诊断和控制的应用
作者:
Author(s): Gregory C. Viloria SC Technology Inc. Livermore CA USA
;
Richard N. Savage SC Technology Inc. Livermore CA USA.
会议名称:
《Process Module Metrology, Control and Clustering》
|
1991年
42.
Learning opportunities through the use of cluster tools
机译:
通过使用集群工具学习机会
作者:
Author(s): Thomas E. Seidel SEMATECH Austin TX USA
;
Michael R. Stark SEMATECH Albuquerque NM USA.
会议名称:
《Process Module Metrology, Control and Clustering》
|
1991年
43.
Application of chemometrics to optical emission spectroscopy for plasma monitoring
机译:
化学计量学在等离子体发射光谱中的应用
作者:
Author(s): Michael P. Splichal Univ. of New Mexico Albuquerque NM USA
;
Harold M. Anderson Univ. of New Mexico Albuquerque NM USA.
会议名称:
《Process Module Metrology, Control and Clustering》
|
1991年
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