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Electron-Beam, X-Ray, and Ion-Beam Submicrometer Lithographies for Manufacturing III
Electron-Beam, X-Ray, and Ion-Beam Submicrometer Lithographies for Manufacturing III
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1.
Mask-to-wafer alignment using x-ray-printed alignment marks in x-ray lithography
机译:
在X射线光刻中使用X射线打印的对准标记进行掩模到晶圆的对准
作者:
Liang-Choo Hsia
;
IBM Corp.
;
San Jose
;
CA
;
USA
;
Alex L. Flamholz
;
IBM Corp.
;
Hopewell Junction
;
NY
;
USA
;
John F. Conway
;
IBM Federal Systems Co.
;
Manassas
;
VA
;
USA.
会议名称:
《Electron-Beam, X-Ray, and Ion-Beam Submicrometer Lithographies for Manufacturing III》
|
1993年
2.
Mixed e-beam/optical lithography process for the fabrication of sub-0.25-um poly gates
机译:
混合电子束/光学光刻工艺,用于制造小于0.25um的多晶硅栅极
作者:
Keith T. Kwietniak
;
IBM Thomas J. Watson Research Ctr.
;
Yorktown Heights
;
NY
;
USA
;
Michael G. Rosenfield
;
IBM Thomas J. Watson Research Ctr.
;
Yorktown Heights
;
NY
;
USA
;
Philip J. Coane
;
IBM Thomas J. Watson Research Ctr.
;
Mahopac Falls
;
NY
;
USA
;
Christoph
会议名称:
《Electron-Beam, X-Ray, and Ion-Beam Submicrometer Lithographies for Manufacturing III》
|
1993年
3.
Accelerated radiation damage testing of x-ray mask membrane materials
机译:
X射线掩模膜材料的加速辐射损伤测试
作者:
Philip A. Seese
;
Motorola
;
Inc.
;
Tempe
;
AZ
;
USA
;
Kevin D. Cummings
;
Motorola
;
Inc.
;
Tempe
;
AZ
;
USA
;
Douglas J. Resnick
;
Motorola
;
Inc.
;
Tempe
;
AZ
;
USA
;
Arnold W. Yanof
;
Motorola
;
Inc.
;
Tempe
;
AZ
;
USA
;
William A. Johnson
;
Motorola
;
Inc.
;
Tempe
;
AZ
;
USA
;
Gr
会议名称:
《Electron-Beam, X-Ray, and Ion-Beam Submicrometer Lithographies for Manufacturing III》
|
1993年
4.
0.25-um x-ray mask repair with focused ion beams
机译:
聚焦离子束修复0.25um的X射线口罩
作者:
Diane K. Stewart
;
Micrion Corp.
;
Peabody
;
MA
;
USA
;
Thomas Olson
;
Micrion Corp.
;
Peabody
;
MA
;
USA
;
Billy Ward
;
Micrion Corp.
;
Peabody
;
MA
;
USA.
会议名称:
《Electron-Beam, X-Ray, and Ion-Beam Submicrometer Lithographies for Manufacturing III》
|
1993年
5.
Advanced transformational analysis applied to e-beam proximity effectcorrection,
机译:
先进的变换分析应用于电子束邻近效应校正,
作者:
Eytan Barouch
;
Princeton Univ.
;
Princeton
;
NJ
;
USA
;
Ronald Coifman
;
Yale Univ.
;
New Haven
;
CT
;
USA
;
J.Ma
;
Yale Univ.
;
New Haven
;
CT
;
USA
;
Martin C. Peckerar
;
Naval Research Lab.
;
Washington
;
DC
;
USA
;
V.Rokhlin
;
Yale Univ.
;
New Haven
;
CT
;
USA.
会议名称:
《Electron-Beam, X-Ray, and Ion-Beam Submicrometer Lithographies for Manufacturing III》
|
1993年
6.
Image formation in capillary arrays: the Kumakhov lens
机译:
毛细管阵列中的图像形成:Kumakhov透镜
作者:
Guan J. Chen
;
Univ. of Wisconsin/Madison
;
Stoughton
;
WI
;
USA
;
Richard K. Cole
;
III
;
Univ. of Wisconsin/Madison
;
Stoughton
;
WI
;
USA
;
Franco Cerrina
;
Univ. of Wisconsin/Madison
;
Stoughton
;
WI
;
USA.
会议名称:
《Electron-Beam, X-Ray, and Ion-Beam Submicrometer Lithographies for Manufacturing III》
|
1993年
7.
Helios compact synchrotron x-ray source: one year of operation at ALF
机译:
Helios紧凑型同步加速器X射线源:ALF运行一年
作者:
David E. Andrews
;
Oxford Instruments
;
Carteret
;
NJ
;
USA
;
C.N. Archie
;
IBM Technology Products
;
Hopewell Junction
;
NY
;
USA.
会议名称:
《Electron-Beam, X-Ray, and Ion-Beam Submicrometer Lithographies for Manufacturing III》
|
1993年
8.
Fully-scaled 0.25-micron bipolar technology using variable shaped electron-beam lithography
机译:
采用可变形状电子束光刻技术的全尺寸0.25微米双极技术
作者:
Philip J. Coane
;
IBM Thomas J. Watson Research Ctr.
;
Mahopac Falls
;
NY
;
USA
;
Kaolin G. Chiong
;
IBM Corp.
;
Saratoga
;
CA
;
USA
;
Mary B. Rothwell
;
IBM Thomas J. Watson Research Ctr.
;
Yorktown Heights
;
NY
;
USA
;
James Warnock
;
IBM Thomas J. Watson Research Ctr.
会议名称:
《Electron-Beam, X-Ray, and Ion-Beam Submicrometer Lithographies for Manufacturing III》
|
1993年
9.
What is required for collimated point-source x-ray lithography to achieve an economically viable throughput?
机译:
准直点源X射线光刻技术需要什么才能实现经济上可行的吞吐量?
作者:
Edward D. Franco
;
Advanced Research
;
Applications Corp.
;
Sunnyvale
;
CA
;
USA
;
Michael Boyle
;
Advanced Research
;
Applications Corp.
;
Sunnyvale
;
CA
;
USA
;
Jonathan A. Kerner
;
Advanced Research
;
Applications Corp.
;
Sunnyvale
;
CA
;
USA
;
Louis N. Koppel
;
Advanced Re
会议名称:
《Electron-Beam, X-Ray, and Ion-Beam Submicrometer Lithographies for Manufacturing III》
|
1993年
10.
Resist performance in soft x-ray projection lithography
机译:
软X射线投影光刻中的抗蚀剂性能
作者:
Glenn D. Kubiak
;
Sandia National Labs.
;
Livermore
;
CA
;
USA
;
Daniel A. Tichenor
;
Sandia National Labs.
;
Livermore
;
CA
;
USA
;
Weng W. Chow
;
Sandia National Labs.
;
Albuquerque
;
NM
;
USA
;
William C. Sweatt
;
Sandia National Labs.
;
Albuquerque
;
NM
;
USA
;
Marc D. H
会议名称:
《Electron-Beam, X-Ray, and Ion-Beam Submicrometer Lithographies for Manufacturing III》
|
1993年
11.
Thin silicon nitride films to increase resolution in e-beam lithography
机译:
氮化硅薄膜可提高电子束光刻的分辨率
作者:
Elizabeth A. Dobisz
;
Naval Research Lab.
;
Washington
;
DC
;
USA
;
Christie R. Marrian
;
Naval Research Lab.
;
Washington
;
DC
;
USA
;
R.E. Salvino
;
National Research Council
;
Washington
;
DC
;
USA
;
M.A. Ancona
;
Naval Research Lab.
;
Washington
;
DC
;
USA
;
K.W. Rhee
;
S
会议名称:
《Electron-Beam, X-Ray, and Ion-Beam Submicrometer Lithographies for Manufacturing III》
|
1993年
12.
Properties of thin SiC membrane for x-ray mask
机译:
用于X射线掩模的SiC薄膜的性能
作者:
Tsutomu Shoki
;
Hoya Corp.
;
Akishima-shi
;
Tokyo
;
Japan
;
Hiroyuki Nagasawa
;
Hoya Corp.
;
Akishima-shi
;
Tokyo
;
Japan
;
Hiroyuki Kosuga
;
Hoya Corp.
;
Akishima-shi
;
Tokyo
;
Japan
;
Yoh-ichi Yamaguchi
;
Hoya Corp.
;
Akishima-shi
;
Tokyo
;
Japan
;
Noromichi Annaka
;
Hoya C
会议名称:
《Electron-Beam, X-Ray, and Ion-Beam Submicrometer Lithographies for Manufacturing III》
|
1993年
13.
Proximity effect correction in electron-beam lithography II
机译:
电子束光刻中的邻近效应校正II
作者:
Geraint Owen
;
Hewlett-Packard Co.
;
Palo Alto
;
CA
;
USA.
会议名称:
《Electron-Beam, X-Ray, and Ion-Beam Submicrometer Lithographies for Manufacturing III》
|
1993年
14.
Process latitude study of focused ion-beam-deposited gold for clear x-ray mask repair
机译:
聚焦离子束沉积金用于透明X射线掩模修复的工艺纬度研究
作者:
Patricia G. Blauner
;
IBM Thomas J. Watson Research Ctr.
;
Yorktown Heights
;
NY
;
USA
;
Andrew D. Dubner
;
IBM Thomas J. Watson Research Ctr.
;
Vadnais Heights
;
MN
;
USA
;
Alfred Wagner
;
IBM Thomas J. Watson Research Ctr.
;
Yorktown Heights
;
NY
;
USA.
会议名称:
《Electron-Beam, X-Ray, and Ion-Beam Submicrometer Lithographies for Manufacturing III》
|
1993年
15.
Silylation and dry development of e-beam resist
机译:
电子束抗蚀剂的硅烷化和干显影
作者:
Lothar Bauch
;
Institut fuer Halbleiterphysik GmbH
;
Dresden
;
Federal Republic of Germany
;
M.Boettcher
;
Institut fuer Halbleiterphysik GmbH
;
Frankfurt (Oder)
;
Federal Republic of Germany
;
A.Wolff
;
Institut fuer Halbleiterphysik GmbH
;
Frankfurt (Oder)
;
Feder
会议名称:
《Electron-Beam, X-Ray, and Ion-Beam Submicrometer Lithographies for Manufacturing III》
|
1993年
16.
Soft x-ray (14 nm) lithography with ultrathin imaging layers and selective electroless metallization
机译:
具有超薄成像层和选择性化学镀层的软X射线(14 nm)光刻
作者:
Jeffrey M. Calvert
;
Naval Research Lab.
;
Washington
;
DC
;
USA
;
T.S. Koloski
;
Naval Research Lab.
;
Washington
;
DC
;
USA
;
Walter J. Dressick
;
Naval Research Lab.
;
Washington
;
DC
;
USA
;
Charles S. Dulcey
;
Naval Research Lab.
;
Washington
;
DC
;
USA
;
Martin C. Peck
会议名称:
《Electron-Beam, X-Ray, and Ion-Beam Submicrometer Lithographies for Manufacturing III》
|
1993年
17.
Electrical and SEM testing of absorber defectivity in the plated-gold process for x-ray masks
机译:
X射线掩模镀金工艺中吸收体缺陷的电学和SEM测试
作者:
Arnold W. Yanof
;
Motorola
;
Inc.
;
Tempe
;
AZ
;
USA
;
W.Dauksher
;
Motorola
;
Inc.
;
Tempe
;
AZ
;
USA
;
Jack Livingston
;
Motorola
;
Inc.
;
Mesa
;
AZ
;
USA
;
L.Genduso
;
Motorola
;
Inc.
;
Tempe
;
AZ
;
USA.
会议名称:
《Electron-Beam, X-Ray, and Ion-Beam Submicrometer Lithographies for Manufacturing III》
|
1993年
18.
Film life enhancement of chemically amplified electron-beam resists
机译:
化学放大电子束抗蚀剂的膜寿命增加
作者:
Theodore H. Fedynyshyn
;
Shipley Co. Inc.
;
Sudbury
;
MA
;
USA
;
Michael F. Cronin
;
Shipley Co. Inc.
;
Newton
;
MA
;
USA
;
James W. Thackeray
;
Shipley Co. Inc.
;
Newton
;
MA
;
USA.
会议名称:
《Electron-Beam, X-Ray, and Ion-Beam Submicrometer Lithographies for Manufacturing III》
|
1993年
19.
Dual exposure (e-beam and i-line) of OCG-895i resist
机译:
OCG-895i抗蚀剂的双重曝光(电子束和i线)
作者:
Richard J. Bojko
;
Cornell Univ.
;
Ithaca
;
NY
;
USA
;
Graham M. Pugh
;
Cornell Univ.
;
Ithaca
;
NY
;
USA.
会议名称:
《Electron-Beam, X-Ray, and Ion-Beam Submicrometer Lithographies for Manufacturing III》
|
1993年
20.
Development of a polycapillary collimator for point-source x-ray lithography
机译:
用于点源X射线光刻的多毛细管准直仪的开发
作者:
Michael H. Vartanian
;
X-Ray Optical Systems
;
Inc.
;
Albany
;
NY
;
USA
;
David M. Gibson
;
X-Ray Optical Systems
;
Inc.
;
Albany
;
NY
;
USA
;
Robert D. Frankel
;
Hampshire Instruments
;
Inc.
;
Rochester
;
NY
;
USA
;
Jerry P. Drumheller
;
Hampshire Instruments
;
Inc.
;
Roches
会议名称:
《Electron-Beam, X-Ray, and Ion-Beam Submicrometer Lithographies for Manufacturing III》
|
1993年
21.
Effects of electron energy in nanometer-scale lithography
机译:
电子能量在纳米光刻中的作用
作者:
T.J. Stark
;
North Carolina State Univ.
;
Raleigh
;
NC
;
USA
;
T.M. Mayer
;
Sandia National Labs.
;
Albuquerque
;
NM
;
USA
;
D.P. Griffis
;
North Carolina State Univ.
;
Raleigh
;
NC
;
USA
;
Phillip E. Russell
;
North Carolina State Univ.
;
Raleigh
;
NC
;
USA.
会议名称:
《Electron-Beam, X-Ray, and Ion-Beam Submicrometer Lithographies for Manufacturing III》
|
1993年
22.
Comparative study of MEBES III and CORE 2564 performance in a manufacturing environment
机译:
MEBES III和CORE 2564在制造环境中的性能比较研究
作者:
Theron L. Felmlee
;
Hewlett-Packard Photomask
;
Santa Clara
;
CA
;
USA
;
Vijaya N. Raghavan
;
Hewlett-Packard Photomask
;
Santa Clara
;
CA
;
USA.
会议名称:
《Electron-Beam, X-Ray, and Ion-Beam Submicrometer Lithographies for Manufacturing III》
|
1993年
23.
Suppression of resist heating effect by multiple electron-beam exposure on GaAs substrates
机译:
通过在GaAs衬底上多次电子束曝光来抑制抗蚀剂加热效果
作者:
Author(s): Hiroyuki Minami Mitsubishi Electric Corp. Itami Japan
;
Hirofumi Nakano Mitsubishi Electric Corp. Hyogo Japan
;
Kazuhiko Sato Mitsubishi Electric Corp. Itami Japan
;
Hirozo Takano Mitsubishi Electric Corp. Hyogo Japan.
会议名称:
《Electron-Beam, X-Ray, and Ion-Beam Submicrometer Lithographies for Manufacturing III》
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1993年
24.
Optimization of low-voltage electron optics
机译:
低压电子光学的优化
作者:
Laurence S. Hordon
;
Stanford Univ.
;
Stanford
;
CA
;
USA
;
Zirong Huang
;
Stanford Univ.
;
Stanford
;
CA
;
USA
;
Raymond Browning
;
Stanford Univ.
;
Stanford
;
CA
;
USA
;
Nadim I. Maluf
;
Stanford Univ.
;
Stanford
;
CA
;
USA
;
R.F. Pease
;
Stanford Univ.
;
Stanford
;
CA
;
USA.
会议名称:
《Electron-Beam, X-Ray, and Ion-Beam Submicrometer Lithographies for Manufacturing III》
|
1993年
25.
Performance of the Hampshire Instruments Model 5000 proximity x-ray ste
机译:
汉普郡仪器5000型x射线Ste的性能
作者:
John Frackoviak
;
ATT Bell Labs.
;
New Providence
;
NJ
;
USA
;
George K. Celler
;
ATT Bell Labs.
;
New Providence
;
NJ
;
USA
;
Charles W. Jurgensen
;
ATT Bell Labs.
;
Somerville
;
NJ
;
USA
;
R.R. Kola
;
ATT Bell Labs.
;
New Providence
;
NJ
;
USA
;
Anthony E. Novembre
;
AT
会议名称:
《Electron-Beam, X-Ray, and Ion-Beam Submicrometer Lithographies for Manufacturing III》
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1993年
26.
Achieving superior MEBES performance through the use of SPC programs and state-of-the-art facilities
机译:
通过使用SPC程序和最先进的设施,实现卓越的MEBES性能
作者:
Linda A. Braz
;
Hewlett-Packard Co.
;
Santa Clara
;
CA
;
USA.
会议名称:
《Electron-Beam, X-Ray, and Ion-Beam Submicrometer Lithographies for Manufacturing III》
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1993年
27.
Absorber roughness effect in XRL image formation
机译:
XRL图像形成中的吸收体粗糙度影响
作者:
Jerry Z. Guo
;
Univ. of Wisconsin/Madison
;
Stoughton
;
WI
;
USA
;
Franco Cerrina
;
Univ. of Wisconsin/Madison
;
Stoughton
;
WI
;
USA.
会议名称:
《Electron-Beam, X-Ray, and Ion-Beam Submicrometer Lithographies for Manufacturing III》
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1993年
28.
Highly accurate calibration method of electron-beam cell projection lithography
机译:
电子束单元投影光刻的高精度校准方法
作者:
Yoshinori Nakayama
;
Hitachi
;
Ltd.
;
Kokubunji
;
Tokyo
;
Japan
;
Yasunari Sohda
;
Hitachi
;
Ltd.
;
Kokubunji
;
Tokyo
;
Japan
;
Norio Saitou
;
Hitachi
;
Ltd.
;
Kokubunji
;
Tokyo
;
Japan
;
Hiroyuki Itoh
;
Hitachi
;
Ltd.
;
Ibaraki
;
Japan.
会议名称:
《Electron-Beam, X-Ray, and Ion-Beam Submicrometer Lithographies for Manufacturing III》
|
1993年
29.
0.35-um rule high-density full-chip x-ray mask patterning
机译:
0.35um规则的高密度全芯片X射线掩模图案化
作者:
Tatsuo Chijimatsu
;
Fujitsu Ltd.
;
Kawasaki
;
Japan
;
Kenichi Kawakami
;
Fujitsu Ltd.
;
Kawasaki
;
Japan
;
Masafumi Nakaishi
;
Fujitsu Ltd.
;
Kawasaki
;
Japan
;
Kazuaki Kondo
;
Fujitsu Ltd.
;
Fukushima
;
Japan
;
Masaaki Nakabayashi
;
Fujitsu Ltd.
;
Kawasaki
;
Japan
;
Masaki
会议名称:
《Electron-Beam, X-Ray, and Ion-Beam Submicrometer Lithographies for Manufacturing III》
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1993年
30.
Impact of chuck flatness on wafer distortion and ste
机译:
卡盘平面度对晶圆变形和STE的影响
作者:
Klaus Simon
;
Fraunhofer-Institut fuer Mikrostrukturtechnik
;
Berlin 3
;
Federal Republic of Germany
;
H.-U. Scheunemann
;
Fraunhofer-Institut fuer Mikrostrukturtechnik
;
Berlin 3
;
Federal Republic of Germany
;
Hans L. Huber
;
Fraunhofer-Institut fuer Mikrostrukt
会议名称:
《Electron-Beam, X-Ray, and Ion-Beam Submicrometer Lithographies for Manufacturing III》
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1993年
31.
Fabrication of x-ray masks with 0.15-um level two-dimensional patterns by using highly accurate FIB lithography
机译:
通过使用高精度FIB光刻技术制作具有0.15um级二维图案的X射线掩模
作者:
Shuji Fujiwara
;
SANYO Electric Co.
;
Ltd.
;
Ibaraki 305
;
Japan
;
Y.Yamaoka
;
SANYO Electric Co.
;
Ltd.
;
Ibaraki
;
Japan
;
M.Harada
;
SANYO Electric Co.
;
Ltd.
;
Ibaraki
;
Japan
;
Junichi Nishino
;
SANYO Electric Co.
;
Ltd.
;
Ibaraki
;
Japan
;
R.Yuasa
;
SANYO Electric Co.
会议名称:
《Electron-Beam, X-Ray, and Ion-Beam Submicrometer Lithographies for Manufacturing III》
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1993年
32.
X-ray mask metrology: the development of linewidth standards for x-ray lithography
机译:
X射线掩模计量学:X射线光刻线宽标准的发展
作者:
Michael T. Postek
;
National Institute of Standards
;
Technology
;
Gaithersburg
;
MD
;
USA
;
Jeremiah R. Lowney
;
National Institute of Standards
;
Technology
;
Gaithersburg
;
MD
;
USA
;
Andras Vladar
;
National Institute of Standards
;
Technology
;
Gaithersburg
;
MD
;
USA
会议名称:
《Electron-Beam, X-Ray, and Ion-Beam Submicrometer Lithographies for Manufacturing III》
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1993年
33.
Suppression of resist heating effect by multiple electron-beam exposureon GaAs substrates,
机译:
通过在GaAs衬底上多次电子束曝光来抑制抗蚀剂加热效果,
作者:
Hiroyuki Minami
;
Mitsubishi Electric Corp.
;
Itami
;
Japan
;
Hirofumi Nakano
;
Mitsubishi Electric Corp.
;
Hyogo
;
Japan
;
Kazuhiko Sato
;
Mitsubishi Electric Corp.
;
Itami
;
Japan
;
Hirozo Takano
;
Mitsubishi Electric Corp.
;
Hyogo
;
Japan.
会议名称:
《Electron-Beam, X-Ray, and Ion-Beam Submicrometer Lithographies for Manufacturing III》
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1993年
34.
Photoresist process latitude optimization for synchrotron x-ray lithography
机译:
用于同步加速器X射线光刻的光刻胶工艺纬度优化
作者:
Andrew T. Pomerene
;
IBM Thomas J. Watson Research Ctr.
;
Yorktown Heights
;
NY
;
USA
;
David E. Seeger
;
IBM Thomas J. Watson Research Ctr.
;
Yorktown Heights
;
NY
;
USA
;
Patricia G. Blauner
;
IBM Thomas J. Watson Research Ctr.
;
Yorktown Heights
;
NY
;
USA.
会议名称:
《Electron-Beam, X-Ray, and Ion-Beam Submicrometer Lithographies for Manufacturing III》
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1993年
35.
Resolution limitation of x-ray proximity lithography--secondary electron and waveguide effects
机译:
X射线近距离光刻的分辨率限制-二次电子和波导效应
作者:
Taro Ogawa
;
Hitachi Ltd.
;
Kokubunji
;
Tokyo
;
Japan
;
Seiichi Murayama
;
Hitachi Ltd.
;
Kokubunji
;
Tokyo
;
Japan
;
Kozo Mochiji
;
Hitachi Ltd.
;
Kokubunji
;
Tokyo
;
Japan
;
Eiji Takeda
;
Hitachi Ltd.
;
Kokubunji
;
Tokyo
;
Japan.
会议名称:
《Electron-Beam, X-Ray, and Ion-Beam Submicrometer Lithographies for Manufacturing III》
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1993年
36.
Fabrication of high-density SRAM chips using mix-and-match x-ray lithography
机译:
使用混合匹配X射线光刻技术制造高密度SRAM芯片
作者:
John F. Conway
;
IBM Federal Systems Co.
;
Manassas
;
VA
;
USA
;
C.N. Alcorn
;
IBM Federal Systems Co.
;
Manassas
;
VA
;
USA
;
D.D. Patel
;
IBM Corp.
;
Manassas
;
VA
;
USA
;
J.A. Ricker
;
IBM Federal Systems Co.
;
Manassas
;
VA
;
USA
;
R.C. Yandow
;
IBM Federal Systems Co.
;
M
会议名称:
《Electron-Beam, X-Ray, and Ion-Beam Submicrometer Lithographies for Manufacturing III》
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1993年
37.
Exposure and resist-process condition dependence of replicated-pattern accuracy in SR lithography
机译:
SR光刻中复制图案精度的曝光和抗蚀剂工艺条件依赖性
作者:
M.Morigami
;
SORTEC Corp.
;
Ibaraki
;
Japan
;
T.Tanaka
;
SORTEC Corp.
;
Ibaraki
;
Japan
;
Takeo Watanabe
;
SORTEC Corp.
;
Ibaraki
;
Japan
;
Y.Yamashita
;
SORTEC Corp.
;
Ibaraki
;
Japan
;
Shuji Fujiwara
;
SANYO Electric Co.
;
Ltd.
;
Ibaraki 305
;
Japan
;
Junichi Nishino
;
SANYO
会议名称:
《Electron-Beam, X-Ray, and Ion-Beam Submicrometer Lithographies for Manufacturing III》
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1993年
38.
Effects of illumination system aberrations on proximity XRL images
机译:
照明系统像差对邻近XRL图像的影响
作者:
Jerry Z. Guo
;
Univ. of Wisconsin/Madison
;
Stoughton
;
WI
;
USA
;
JiaBei Xiao
;
Univ. of Wisconsin/Madison
;
Madison
;
WI
;
USA
;
Franco Cerrina
;
Univ. of Wisconsin/Madison
;
Stoughton
;
WI
;
USA
;
Whitson G. Waldo
;
Motorola
;
Inc.
;
Stoughton
;
WI
;
USA.
会议名称:
《Electron-Beam, X-Ray, and Ion-Beam Submicrometer Lithographies for Manufacturing III》
|
1993年
39.
Effects of absorber topography and multilayer coating defects on reflective masks for soft x-ray/EUV projection lithography
机译:
吸收体形貌和多层涂层缺陷对软X射线/ EUV投影光刻的反射掩模的影响
作者:
Khanh B. Nguyen
;
Lawrence Berkeley Lab.
;
Univ. of California/Berkel ey
;
Berkeley
;
CA
;
USA
;
Alfred K. Wong
;
Univ. of California/Berkeley
;
Berkeley
;
CA
;
USA
;
Andrew R. Neureuther
;
Univ. of California/Berkeley
;
Berkeley
;
CA
;
USA
;
David T. Attwood
;
Jr.
;
Lawren
会议名称:
《Electron-Beam, X-Ray, and Ion-Beam Submicrometer Lithographies for Manufacturing III》
|
1993年
40.
EBES4: performance of a new e-beam reticle generator
机译:
EBES4:新型电子束标线片发生器的性能
作者:
Darryl W. Peters
;
Lepton
;
Inc.
;
Murray Hill
;
NJ
;
USA
;
D.C. Fowlis
;
Lepton
;
Inc.
;
Murray Hill
;
NJ
;
USA
;
C.M. Rose
;
Lepton
;
Inc.
;
Murray Hill
;
NJ
;
USA
;
A.R. von Neida
;
Lepton
;
Inc.
;
Murray Hill
;
NJ
;
USA
;
Herbert A. Waggener
;
Lepton
;
Inc.
;
New Providence
;
NJ
会议名称:
《Electron-Beam, X-Ray, and Ion-Beam Submicrometer Lithographies for Manufacturing III》
|
1993年
41.
Characteristics of the spherical pinch plasma radiation source (SPX II) for x-ray UV and deep-UV lithography
机译:
用于X射线UV和深紫外光刻的球形收缩等离子体辐射源(SPX II)的特性
作者:
Shridar Aithal
;
Advanced Laser
;
Fusion Technology
;
Inc.
;
Hull
;
Quebec
;
Canada
;
Emilio Panarella
;
Advanced Laser
;
Fusion Technology
;
Inc.
;
Hull
;
Quebec
;
Canada
;
M.Lamari
;
Advanced Laser
;
Fusion Technology
;
Inc.
;
Hull
;
Quebec
;
Canada
;
B.Hilko
;
Advanced Laser
;
F
会议名称:
《Electron-Beam, X-Ray, and Ion-Beam Submicrometer Lithographies for Manufacturing III》
|
1993年
42.
Chemically assisted focused-ion-beam etching for tungsten x-ray mask repair
机译:
化学辅助聚焦离子束蚀刻用于钨X射线掩模修复
作者:
Lloyd R. Harriott
;
ATT Bell Labs.
;
Murray Hill
;
NJ
;
USA
;
R.R. Kola
;
ATT Bell Labs.
;
New Providence
;
NJ
;
USA
;
George K. Celler
;
ATT Bell Labs.
;
New Providence
;
NJ
;
USA.
会议名称:
《Electron-Beam, X-Ray, and Ion-Beam Submicrometer Lithographies for Manufacturing III》
|
1993年
43.
Advanced transformational analysis applied to e-beam proximity effect correction
机译:
先进的变换分析应用于电子束邻近效应校正
作者:
Author(s): Eytan Barouch Princeton Univ. Princeton NJ USA
;
Ronald Coifman Yale Univ. New Haven CT USA
;
J.Ma Yale Univ. New Haven CT USA
;
Martin C. Peckerar Naval Research Lab. Washington DC USA
;
V.Rokhlin Yale Univ. New Haven CT USA.
会议名称:
《Electron-Beam, X-Ray, and Ion-Beam Submicrometer Lithographies for Manufacturing III》
|
1993年
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