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机译:等离子体增强化学气相沉积法沉积并表征TES / O_2前驱体形成的多孔低介电常数SiOC(-H)薄膜
Low-k materials; SiOC(-H) films; TES; PECVD; FTIR; XPS;
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机译:O_2,N_2流量和沉积时间对通过大气压化学气相沉积(APCVD)沉积的SnO_2薄膜的结构,电学和光学性质的依赖性
机译:氢在Sb膜沉积中的作用以及使用金属有机前体的循环等离子体增强化学气相沉积法沉积Sb和Ge_xSb_y膜的特性
机译:射频溅射通过物理气相沉积处理Cu(In,Ga)Se2薄膜太阳能电池的ZnO,ZnO:Al薄膜的沉积和表征
机译:氧化铈,氧化镓铟和氧化镁薄膜的金属有机化学气相沉积:前体设计,膜生长和膜表征。
机译:通过原子层沉积和化学气相沉积在高纵横比结构中沉积的薄膜的ToF-SIMS 3D分析
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