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首页> 外文期刊>Journal of Ceramic Processing Research. (Text in English) >Study on the recognition of the marks for low-energy microcolumn lithography
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Study on the recognition of the marks for low-energy microcolumn lithography

机译：低能微柱光刻的标记识别研究

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Electron beam lithography has been paid great attention as a future lithography technology for the patterning of extremely fine structures. Generally e-beam lithography means high-energy e-beam lithography where the kinetic energies of electrons are rather high(10-100 keV). Although high-energy e-beam technology is mature and being used in the semiconductor industry, low-energy microcolumn lithography(LEML) has many great advantages as a next-generation technology, which explains the active research on the subject these days. In this study, we developed a new method to recognize the registration marks in LEML. With this novel method, there is no need to supply a bias to the mark electrodes, which remarkably simplifies the fabrication process of IC devices.
机译：电子束光刻作为一种用于对极细结构进行构图的未来光刻技术已引起了极大的关注。通常，电子束光刻是指高能电子束光刻，其中电子的动能相当高（10-100 keV）。尽管高能电子束技术已经成熟并已在半导体行业中使用，但低能微柱光刻技术（LEML）作为下一代技术具有许多巨大优势，这解释了近来对该主题的积极研究。在这项研究中，我们开发了一种识别LEML中注册商标的新方法。利用这种新颖的方法，不需要向标记电极提供偏压，这显着地简化了IC器件的制造工艺。

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