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A damascene platform for controlled ultra-thin nanowire fabrication

机译：用于控制超薄纳米线制造的镶嵌平台

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This paper presents a damascene process for the fabrication of titanium microanostructures and nanowires with adjustable thickness down to 2 nm. Their depth is precisely controlled by chemical-mechanical planarization together with in-process electrical characterization. The latter, in combination with a model of the titanium resistivity versus thickness, allows control of the metal line depth in the nanometer range. In summary, we have developed a planarization end point detection method for metal nanostructures. In addition, the model adopted covers geometrical influences like oxidation and ageing. The fabricated titanium nanowire test structures have a thickness ranging from 2 to 25 nm and a width ranging between 15 and 230 nm.
机译：本文介绍了一种镶嵌工艺，用于制造厚度可调至2 nm的钛微/纳米结构和纳米线。它们的深度通过化学机械平面化以及过程中的电气特性精确控制。后者与钛电阻率对厚度的模型相结合，可以将金属线深度控制在纳米范围内。总之，我们已经开发出一种用于金属纳米结构的平面化终点检测方法。此外，采用的模型涵盖了诸如氧化和老化之类的几何影响。所制造的钛纳米线测试结构的厚度为2至25 nm，宽度为15至230 nm。

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