...
机译:基于变量MBE HGCDTE的TIR结构滞后现象用双层等离子体化学电介质SIO 2 / SI 3N 4
Национальный исследовательский Томский государственный университет г. Томск Россия;
Национальный исследовательский Томский государственный университет г. Томск Россия;
Национальный исследовательский Томский государственный университет г. Томск Россия;
МДП-СТРУКТУРА; HGCDTE; МОЛЕКУЛЯРНО-ЛУЧЕВАЯ ЭПИТАКСИЯ; ВАРИЗОННЫЙ СЛОЙ; ВОЛЬТ-ФАРАДНАЯ ХАРАКТЕРИСТИКА; ГИСТЕРЕЗИС ВОЛЬТ-ФАРАДНОЙ ХАРАКТЕРИСТИКИ; ПЕРЕХОДНЫЙ СЛОЙ НА ГРАНИЦЕ РАЗДЕЛА ДИЭЛЕКТРИК - ПОЛУПРОВОДНИК;
机译:基于两层等离子体化学SIO 2 / SI 3N 4的Varizon MBE HGCDTE的MIS结构中的迟滞现象
机译:Si {sub} 3N {sub} 4-AlN-Al {sub} 2O {sub} 3-SiO {sub} 2-TiN--区域中Si-Al-ON-Ti系统的组分相互作用的理化研究TiO {sub} 2。 I.子系统Si {sub} 3N {sub} 4-Al {sub} 2O {sub} 3,Si {sub} 3N {sub} 4-TiN和Al {sub} 2O {sub} 3
机译:地区Si {Sub} 4-Aln-Al {Sub} 3-Aln-Al} 4-Aln-Al {Sub} 3-Aln} 3-SiO {Sub} 2-Tin- tio {sub} 2。 I.子系统SI {sub} 3n {sub} 4-al {sub} 2o {sub} 3,si {sub} 3n {sub} 4-tin,an {sub} 2o {sub} 3
机译:Si {sub} 3n {sub} 4 / siO {sub} 2的电荷存储特性和单层Si {sub} 3n {sub} 4
机译:高温下Mn2SiO4,Fe2SiO4,CO2SiO4的弹性常数和橄榄石矿物的弹性
机译:二氧化硅改性的SiO2 @ ANA-Si-Tb @ SiO2SiO2 @ ANA-Si-Tb-L @ SiO2核-壳-壳纳米结构复合材料的合成和光致发光性能
机译:(ViMe2SiO1 / 2)x(PhSiO3 / 2)y(SiO4 / 2)z,(ViMe2SiO1 / 2)x(SiO4 / 2)y和(SiO4 / 2)的低分子量组分的表征x(HO1 / 2)y(tBuO1 / 2)z倍半硅氧烷通过电喷雾电离傅里叶变换质谱(ESI-FTMS)