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机译:ARF准分子激光光刻的光致抗蚀剂的开发
FUJITSU LTD Nakahara Ku 1-1 Kamikodanaka 4 Chome Kawasaki Kanagawa 2118588 Japan;
机译:ARF准分子激光光刻的光致抗蚀剂的开发
机译:透明烷基ky盐作为ArF准分子激光光刻的光致产酸剂
机译:基于ArF激光光刻的90nm临界尺寸的光刻胶厚度的优化设计
机译:ArF准分子激光光刻中的含硅光刻胶
机译:精密准分子激光光刻技术,用于带有厚光刻胶的圆柱形基板。
机译:193 nm ArF受激准分子激光在激光辅助等离子体增强SiNx的化学气相沉积中的作用以进行低温薄膜封装
机译:用于KRF准分子激光光刻的三个分量负光致抗蚀剂。
机译:用arF(193 nm)准分子激光脉冲激光沉积非晶类金刚石薄膜