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机译:HF0.5ZR0.5O2薄膜中的铁电:偏振切换现象和现场诱导的相变的微观研究
Moscow Inst Phys &
Technol 9 Inst Skiy Lane Dolgoprudnyi 141700 Moscow Region Russia;
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Univ Nebraska Dept Phys &
Astron Lincoln NE 68588 USA;
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hafnium oxide; ferroelectric switching; domain structure; polycrystalline ferroelectric films; piezoresponse force microscopy;
机译:HF0.5ZR0.5O2薄膜中的铁电:偏振切换现象和现场诱导的相变的微观研究
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机译:成分梯度铁电薄膜中极化针状畴的形成及其异常开关:改进的相场模型
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机译:铁电晶体和液晶薄膜的结构和开关动力学研究。