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【24h】

Ion-beam etching for the precise manufacture of optical coatings: erratum

机译:离子束蚀刻用于光学涂层的精确制造:勘误

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摘要

In our previous publication [Poitras et al. Appl. Opt. 42, 4037-4044 (2003)], an incorrect version of Fig. 8 was printed. The correct version of the figure is presented here.
机译:在我们以前的出版物中[Poitras等。应用选择。 42,4037-4044(2003)]中,打印了错误版本的图8。此处显示了该图的正确版本。

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  • 来源
    《Applied optics》 |2003年第28期|共1页
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  • 正文语种 eng
  • 中图分类 光学;
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