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Computational Model for Substrate Motion in EB-PVD Process

机译：EB-PVD工艺中基板运动的计算模型

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This article presents a computational model for simulating the dynamic processes of EB-PVD where a complex substrate is coated inside a vapor plume evaporated from an ingot, while being manipulated on a holder. The motivation is to provide an efficient computation tool that combines the substrate manipulation with the evaporation and deposition process. This is important because the substrate motion significantly affects the microstructure and texture of the coating produced. Specifically, we mathematically formulate a substrate manipulation model using the coordinate transformation technique commonly used in robotics. The proposed model has been implemented in Matlab, and computational simulations are presented to illustrate the developments. The computational model is used for experiments to investigate manipulation parameters for a yttria-stabilized zirconia (YSZ) coating on a turbine blade.
机译：本文提出了一种用于模拟EB-PVD动力学过程的计算模型，其中，将复杂的基板涂覆在从铸锭蒸发的蒸气羽流中，同时在支架上进行操作。动机是提供一种有效的计算工具，该工具将衬底操纵与蒸发和沉积过程相结合。这很重要，因为基材的运动会显着影响所产生涂层的微观结构和质地。具体而言，我们使用机器人技术中常用的坐标转换技术在数学上公式化了一个基板操纵模型。所提出的模型已在Matlab中实现，并通过计算仿真来说明其发展。该计算模型用于实验，以研究涡轮叶片上的氧化钇稳定的氧化锆（YSZ）涂层的处理参数。

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