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Selected immobilization of individual nanoparticles by spot-exposure electron-beam-induced deposition

机译：通过点曝光电子束诱导的沉积选择性固定单个纳米颗粒

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The use of spot-exposure electron-beam-induced deposition (EBID) to immobilize targeted nanoparticles on a substrate is demonstrated, and investigated using experiment and simulation. Nanoparticles are secured in place through the build-up of carbonaceous material that forms in the region between a particle and substrate when an energetic electron beam is focused onto the particle and projected through to the substrate. Material build-up directly affects the strength of adhesion to the surface, and can be controlled through electron dosage and beam energy. By selectively immobilizing specific particles within surface agglomerations and removing the excess, we illustrate the potential for spot-exposure EBID as a new technique for nanofabrication.
机译：演示了使用点曝光电子束诱导沉积（EBID）将目标纳米粒子固定在基板上，并通过实验和仿真进行了研究。当高能电子束聚焦到颗粒上并投射到基底上时，通过在颗粒与基底之间的区域中形成的碳质材料的堆积，将纳米颗粒固定在适当的位置。材料的堆积直接影响到表面的粘附强度，可以通过电子剂量和束能量来控制。通过选择性地将特定的颗粒固定在表面团聚体中并去除多余的颗粒，我们说明了点曝光EBID作为纳米加工新技术的潜力。

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