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Tunable, high aspect ratio pillars on diverse substrates using copolymer micelle lithography: an interesting platform for applications

机译：使用共聚物胶束光刻技术可在各种基板上进行可调的高纵横比支柱：一个有趣的应用平台

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We demonstrate the use of copolymer micelle lithography using polystyrene-block-poly(2-vinylpyridine) reverse micelle thin films in their as-coated form to create nanopillars with tunable dimensions and spacing, on different substrates such as silicon, silicon oxide, silicon nitride and quartz. The promise of the approach as a versatile application oriented platform is highlighted by demonstrating its utility for creating super-hydrophobic surfaces, fabrication of nanoporous polymeric membranes, and controlling the areal density of physical vapor deposition derived titanium nitride nanostructures.
机译：我们展示了使用共聚物胶束光刻技术，该共聚物胶束光刻技术以涂覆形式的聚苯乙烯嵌段聚（2-乙烯基吡啶）反胶束薄膜在不同的基材（例如硅，氧化硅，氮化硅）上产生尺寸和间距可调的纳米柱和石英。通过证明该方法可用于创建超疏水表面，制造纳米多孔聚合物膜并控制物理气相沉积衍生的氮化钛纳米结构的面密度，凸显了该方法作为面向通用应用程序平台的前景。

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