Ferrofluid lithography

Yellen BB; Fridman G; Friedman G

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Ferrofluid lithography

机译：铁磁光刻

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A novel self-aligned 'soft masking' method that is compatible with traditional photolithographic processes is demonstrated. This method uses a suspension of ultrafine iron oxide grains (ferrofluid) to protect or de-protect selected areas of a magnetically patterned substrate according to a programmable sequence. Automatic mask formation and registration is controlled by ferromagnetic alignment marks patterned on a substrate. External magnetic field bias applied to the system causes ferrofluid to aggregate only over designated areas on the surface, thereby masking those areas from UV or chemical exposure.

机译：展示了一种与传统光刻工艺兼容的新颖的自对准“软掩膜”方法。该方法使用超细氧化铁晶粒（铁磁流体）的悬浮液，以按照可编程顺序保护或取消保护磁性图案化基材的选定区域。自动掩模的形成和配准由在基板上构图的铁磁对准标记控制。施加到系统的外部磁场偏置导致铁磁流体仅在表面上的指定区域上聚集，从而使这些区域免受紫外线或化学物质的照射。

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来源
《Nanotechnology》 |2004年第10期|共4页
作者
Yellen BB; Fridman G; Friedman G;
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作者单位

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收录信息
原文格式 PDF
正文语种 eng
中图分类一般工业技术;
关键词
COLLOIDAL PARTICLE ARRAYS; CHAINS;

机译：胶体颗粒阵列;链;

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