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首页> 外文期刊>Nanotechnology >Ultraviolet-nanoimprint of 40 nm scale patterns using functionally modified fluorinated hybrid materials
【24h】

Ultraviolet-nanoimprint of 40 nm scale patterns using functionally modified fluorinated hybrid materials

机译：使用功能改良的氟化杂化材料对40纳米尺度图案进行紫外-纳米压印

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Photo-curable fluorinated organic - inorganic hybrid materials (F-hybrimers) present high modulus, low surface tension, low shrinkage, and high etching resistance. These are essential properties as a mould and as a resist for nanoimprint lithography (NIL). In order to control the properties of the fluorinated hybrimer, in this study it is modified by the optimal addition of appropriate acryl monomers as a mould and as a resist material for NIL. Accordingly, the viscosity in terms of the resist material and the modulus in terms of the mould material are modulated ( low v F-hybrimer and flexible F-hybrimer). Finally, 30 - 40 nm half-pitch line patterns are imprinted, using identically modified F-hybrimer material systems as a mould and a resist.
机译：可光固化的氟化有机-无机杂化材料（F型混合材料）具有高模量，低表面张力，低收缩率和高耐蚀刻性。这些是模具和纳米压印光刻胶（ NIL）的必不可少的特性。为了控制氟化hybrimer的特性，在本研究中，通过最佳添加适当的丙烯酸单体作为模具和作为NIL的抗蚀剂材料对其进行了改性。因此，调节了以抗蚀剂材料为单位的粘度和以模制材料为单位的模量（低v F混合器和柔性F混合器）。最后，使用相同修改的F型混合材料系统作为模具和抗蚀剂，压印30至40 nm的半节距线图案。

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