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基于紫外纳米压印光刻的氟化混合物模板制备

         

摘要

不同特征尺度和不同周期的氟化混合物软复制模板,通过使用硅主模板和紫外纳米压印光刻技术制备而成。与聚二甲基硅氧烷和其他聚合物材料相比,光刻胶具有优良的性能,如优良的机械强度、低表面能和良好的热稳定性等。在紫外和热纳米压印工艺中,主模板被用作印章。实验结果表明,转移到基底上的图案与主模板非常一致。所制备的氟化混合物复制模板不仅适用于紫外纳米压印,也适用于热纳米压印,并且所加工的复制模板还可被用于制备光电器件,以实现传感、成像、探测、通信和数据存储等领域中的相关功能。

著录项

  • 来源
    《飞控与探测》 |2019年第2期|P.54-58|共5页
  • 作者单位

    [1]中国矿业大学信息与控制工程学院;

    物联网(感知矿山)研究中心;

    矿山互联网应用技术国家工程实验室;

    徐州221008;

    [2]上海交通大学电子信息与电气工程学院;

    微米/纳米加工技术国家重点实验室;

    薄膜与微细技术教育部重点实验室;

    上海200240;

    [2]上海交通大学电子信息与电气工程学院;

    微米/纳米加工技术国家重点实验室;

    薄膜与微细技术教育部重点实验室;

    上海200240;

    [2]上海交通大学电子信息与电气工程学院;

    微米/纳米加工技术国家重点实验室;

    薄膜与微细技术教育部重点实验室;

    上海200240;

  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 CHI
  • 中图分类 其他器件;
  • 关键词

    纳米制造; 纳米压印曝光; 纳米压印设备; 氟化混合物复制软模板;

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