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Hierarchical silicon nanostructured arrays via metal-assisted chemical etching

机译：通过金属辅助化学刻蚀的分层硅纳米结构阵列

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Hierarchically arranged nanostructures, configured in both nanopillars and nanoholes, have been fabricated via a low-cost approach that combines metal-assisted chemical etching (MaCE), nanosphere lithography and conventional photolithography. By manipulating the catalyst morphology as well as the deposition method, different interesting nanostructures like nanowalls and nanograsses were fabricated at the galleries among the nanopillar blocks. Using a similar strategy, hierarchical negative structures (nanoholes) have also been successfully demonstrated. The successful construction of these diversified hierarchical nanostructures illustrates that MaCE could be employed as a feasible, low-cost method for multi-scale silicon microano machining, which is highly desirable for widespread applications, including tissue engineering, optoelectronics, photonic devices and lab-on-chip systems.
机译：通过将金属辅助化学蚀刻（MaCE），纳米球光刻和常规光刻技术相结合的低成本方法，可以制造出配置在纳米柱和纳米孔中的分层排列的纳米结构。通过操纵催化剂的形态和沉积方法，在纳米柱块之间的画廊中制造了不同的有趣的纳米结构，如纳米壁和纳米草。使用类似的策略，分层负结构（纳米孔）也已成功证明。这些多样化的分层纳米结构的成功构建表明，MaCE可作为一种可行的低成本方法用于多尺度硅微/纳米加工，这对于包括组织工程，光电，光子器件和实验室在内的广泛应用是非常理想的芯片系统。

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