Metals; Gates(Circuits); Integrated circuits; Silicon dioxide; Silicon; Impurities; Activation energy; High temperature; Ionization; Diodes; Chemical reactions; Temperature; Diffusion; Interstitial; Conductivity; Depth; Junctions; Geometry; Metallizing; Solids; Solubi;
机译:补偿和金属杂质对Cz生长的太阳能级硅电性能的影响
机译:硅中金属杂质的磷扩散吸杂:超越偏析的机理
机译:Clank部分脱位的电气活性及金属杂质在Czochralski-生长硅中的影响
机译:化学放大光刻胶中金属杂质在硅基衬底上的扩散和吸附机理
机译:原子,分子和固态系统的能量和波函数性质:氢离子以及锂,氖和磷原子;三氟化硼-氨分子配合物和甲基衍生物;硅中的钒,铬和锰离子以及中性锰过渡金属杂质
机译:化学还原的石墨烯包含母体天然和合成石墨中存在的固有金属杂质
机译:分析化学“超级”和“超”代表。亚区化学蚀刻/微射线NEBLIELER-ICP-MS测定硅晶片中硅晶片超速金属杂质分布。