机译:环戊二烯基和臭氧前体的原子层沉积法生长的锆和Ha氧化物高k栅极电介质的电性能
机译:通过环戊二烯基型前体和水的原子层沉积控制HfO2薄膜的生长
机译:通过Al2O3种子层辅助高k电介质的原子层沉积性能提高单层MOS2晶体管
机译:使用MO前体和循环等离子体暴露的高k栅极电介质的原子层沉积
机译:使用基于臭氧的ALD(原子层沉积)的高K电介质沉积(氧化铝),用于石墨烯基器件。
机译:具有高K原子层沉积介电材料绝缘层的CMUT
机译:Ge和III-V MOS通道上高k介电层的原子层沉积