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干涉光刻系统、打印装置和干涉光刻方法

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一种干涉光刻系统，包括位相元件、第一透镜、第二透镜、第三透镜、第四透镜和锥透镜组，位相元件、第一透镜、第二透镜、第三透镜、第四透镜沿着光轴传播方向依次设置，第一透镜与第二透镜形成一组4F成像系统，第三透镜与第四透镜形成另一组4F成像系统，锥透镜组沿着光轴传播方向可移动地设置于第三透镜与第四透镜之间。本发明的干涉光刻系统结构简单，制作成本低，能够实现多角度、变周期干涉光刻。本发明还涉及一种打印装置和干涉光刻方法。

著录项

公开/公告号CN110119071A

专利类型发明专利
公开/公告日2019-08-13

原文格式PDF
申请/专利权人苏州苏大维格光电科技股份有限公司;苏州大学;
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申请/专利号CN201810117030.9
发明设计人袁晓峰;吕帅;朱鹏飞;邵仁锦;朱鸣;浦东林;
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申请日2018-02-06
分类号G03F7/20(20060101);
代理机构31264 上海波拓知识产权代理有限公司;
代理人杨波
地址 215026 江苏省苏州市苏州工业园区新昌路68号
入库时间 2024-02-19 12:09:05

法律信息

法律状态公告日

法律状态信息

法律状态
2019-09-06

实质审查的生效 IPC(主分类):G03F7/20 申请日:20180206

实质审查的生效
2019-08-13

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