法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2016-12-07
发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):H05H1/34 申请公布日:20141119 申请日:20120810
发明专利申请公布后的视为撤回
2014-12-17
实质审查的生效 IPC(主分类):H05H1/34 申请日:20120810
实质审查的生效
2014-11-19
公开
公开
机译: 等离子体发生器,基板处理设备,半导体设备制造方法,由基板处理设备执行的程序,等离子体生成方法,由等离子体发生器,电极和反应管执行的程序
机译: 等离子产生装置,等离子产生装置旋转电极的制造方法,基体的等离子体处理方法以及利用等离子体形成混合结构的薄膜的方法
机译: 等离子产生装置,等离子产生装置旋转电极的制造方法,基体的等离子体处理方法以及利用等离子体形成混合结构的薄膜的方法