法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2020-06-23
实质审查的生效 IPC(主分类):G03F7/075 申请日:20191120
实质审查的生效
2020-05-29
公开
公开
机译: 成膜材料,用于光刻的成膜组合物,光学部件形成材料,抗蚀剂组合物,抗蚀剂图案形成方法,用于抗蚀剂的永久膜,辐射敏感性组合物,非晶膜的制造方法,用于光刻的下层膜形成材料,用于光刻的下层成膜组合物,用于光刻的下层膜的制造方法和电路图案形成方法
机译: 化合物,其制造方法,组成,光学部件形成用组合物,光刻用膜形成用组合物,抗蚀剂组合物,抗蚀剂图案形成方法,放射线敏感性组合物,非晶膜的制造方法,光刻用下层,成膜材料,形成用组合物用于光刻的底层膜,用于光刻的底层膜的制造方法,抗蚀剂图案形成方法,电路图案形成方法和纯化方法
机译: 化合物,树脂,抗蚀剂组合物或放射线敏感性组合物,抗蚀剂图案形成方法,非晶膜制造方法,光刻下层膜形成材料,光刻下层膜形成组合物,电路图案形成方法和纯化方法