公开/公告号CN111316398A
专利类型发明专利
公开/公告日2020-06-19
原文格式PDF
申请/专利权人 国际商业机器公司;
申请/专利号CN201880072073.8
申请日2018-11-15
分类号
代理机构北京市柳沈律师事务所;
代理人王蕊瑞
地址 美国纽约阿芒克
入库时间 2023-12-17 10:33:22
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2020-07-14
实质审查的生效 IPC(主分类):H01L21/265 申请日:20181115
实质审查的生效
2020-06-19
公开
公开
机译: 直接在非晶硅硬掩模上构图
机译: 具有抗反射特性的硬掩模组合物以及使用该硬掩模组合物在衬底上构图材料的方法
机译: 在用于集成电路生产的半导体基板上制造硬掩模包括:在基板上形成硬掩模层;在硬掩模层上形成光漆结构;以及进一步处理