公开/公告号CN101558357A
专利类型发明专利
公开/公告日2009-10-14
原文格式PDF
申请/专利权人 飞思卡尔半导体公司;
申请/专利号CN200580001379.7
发明设计人 凯尔·帕特松;柯克·施特罗泽夫斯基;
申请日2005-02-15
分类号G03F7/09;G03F7/11;G03F7/20;
代理机构中原信达知识产权代理有限责任公司;
代理人穆德骏
地址 美国得克萨斯
入库时间 2023-12-17 22:53:02
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2011-05-25
发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):G03F7/09 公开日:20091014 申请日:20050215
发明专利申请公布后的视为撤回
2009-12-09
实质审查的生效
实质审查的生效
2009-10-14
公开
公开
机译: 使用覆盖抗蚀剂的保护层的浸没式光刻技术和产品
机译: 使用抗蚀剂覆盖的保护层的浸没光刻技术和产品
机译: 使用抗蚀剂覆盖的保护层的浸没光刻技术和产品