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马铃薯半高垄覆膜自破膜出苗栽培方法

摘要

本发明公开了一种马铃薯半高垄覆膜自破膜出苗栽培方法,播种方式为半高垄作膜下滴灌采用大小垄双行种植模式,在垄台上播种,小行距为30~35cm,大行距为55~60cm,株距为32~38cm,播种密度为52500~60000株/hm2,滴灌管铺设在小行距中间,播种时间在5月上旬,当土壤10cm深处地温达到8~10℃时即可播种,播种深度为6~12cm。起垄整形的垄高为10cm的半高垄,垄台宽度为50~65cm,垄距100~130cm。膜上覆土厚度为5~7cm,覆土时间为播后当天或集中在5~7d内完成。由于本发明采用播种后在地膜上全覆土的方法,有效改善了土壤的肥水条件,起到避免春季风大吹破地膜,达到抑制畦面长草的效果。本栽培方法有提高地温,缩短出苗及收获时间,且马铃薯自行破膜出土的优点。

著录项

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-06-26

    发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):A01G1/00 申请公布日:20150930 申请日:20150123

    发明专利申请公布后的视为撤回

  • 2015-11-04

    实质审查的生效 IPC(主分类):A01G1/00 申请日:20150123

    实质审查的生效

  • 2015-09-30

    公开

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