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公开/公告号CN112219271A
专利类型发明专利
公开/公告日2021-01-12
原文格式PDF
申请/专利权人 科磊股份有限公司;
申请/专利号CN201980037056.5
发明设计人 A·帕克;A·杰因;
申请日2019-06-12
分类号H01L21/67(20060101);H01L21/66(20060101);H01L27/02(20060101);
代理机构11287 北京律盟知识产权代理有限责任公司;
代理人刘丽楠
地址 美国加利福尼亚州
入库时间 2023-06-19 09:30:39
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2022-01-28
授权
发明专利权授予
机译: 混合设计布局以识别与光学邻近度相关的系统缺陷
机译: 混合设计布局,以识别与光学距离校正相关的系统缺陷
机译:通过10nm节点工艺的混合光学邻近效应校正建模和收缩校正技术提高光学邻近效应校正模型的准确性
机译:基于光学邻近效应校正的受限光学邻近效应校正模式生成-基于模型的光学邻近效应校正中的可制造性规则设计
机译:极端紫外线光刻掩模的缺陷补偿和光学邻近校正的快速优化
机译:考虑掩模可制造性的光学邻近校正及其在0.25μmDRAM中的应用以增强器件性能
机译:通过光学邻近校正来补偿极紫外光刻图像场边缘效应。
机译:系统性硬化症系统性红斑狼疮类风湿性关节炎和混合性结缔组织病患者的外周血白细胞产生白细胞内源性介体(白介素1)的缺陷。
机译:用校正结果校正光学文本识别的混合方法
机译:全球双标量测量技术及平面混合层光学相位校正中低阶模型的开发