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一种利用柯恩达效应的水刀结构

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本发明公开了一种利用柯恩达效应的水刀结构，包括流体供应管以及水刀，所述水刀由前主体及后主体组成，所述前主体具有用于将清洁液引入内部的入口管，所述后主体连接到流体供应管的相对表面并与入口管连通，从而与前主体形成相互间隙以增加清洁液的水压，所述前主体的下部形成有柯恩达曲率表面，所述柯恩达曲率表面引导通过间隙供应的清洁液在前主体的纵向上均匀地分布，根据本发明的利用柯恩达效应的水刀结构，通过基于流体的压力和水刀的间隙来设计附壁的曲率半径，防止了以往因颗粒而导致的流体供应的分支现象，因此，具有充分降低诸如液晶显示器(LCD)的平板显示器的刻蚀或清洁过程中的不良率的效果。

著录项

公开/公告号CN112275703A

专利类型发明专利
公开/公告日2021-01-29

原文格式PDF
申请/专利权人南京华易泰电子科技有限公司;
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申请/专利号CN202011062037.9
发明设计人胡璐;
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申请日2020-09-30
分类号B08B3/02(20060101);B05B9/00(20060101);B05B1/04(20060101);
代理机构11616 北京盛凡智荣知识产权代理有限公司;
代理人屠佳婕
地址 210032 江苏省南京市江北新区智能制造园博富路10号
入库时间 2023-06-19 09:43:16

法律信息

法律状态公告日

法律状态信息

法律状态
2023-03-17

发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):B08B 3/02 专利申请号:2020110620379 申请公布日:20210129

发明专利申请公布后的驳回

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外文文献

1. 一种利用柯恩达效应的水刀结构 [P] . 中国专利： CN112275703A . 2021-01-29
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