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电子射线应用装置及电子射线应用装置的电子束的射出方法

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本发明提供一种适用于包括光电阴极的电子枪的电子射线应用装置以及该电子射线应用装置的电子束的射出方法。本发明包括电子枪部分、本体部分以及控制部的电子射线应用装置。所述电子枪部分包括光源、通过接收自光源所照射的激发光而射出电子束的光电阴极、以及阳极。所述本体部分包括用以将自所述电子枪部分照射的电子束进行聚焦的物镜。所述控制部至少用以根据自所述光电阴极射出的电子束的尺寸而控制所述物镜的聚焦强度。

著录项

公开/公告号CN113692635A

专利类型发明专利
公开/公告日2021-11-23

原文格式PDF
申请/专利权人日商光电魂股份有限公司;
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申请/专利号CN202080028780.4
发明设计人西谷智博;
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申请日2020-10-13
分类号H01J37/065(20060101);H01J37/075(20060101);H01J37/12(20060101);H01J37/26(20060101);
代理机构11258 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司;
代理人刘军
地址日本爱知县
入库时间 2023-06-19 13:21:35

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