首页> 中国专利> 具有压力缓冲作用的铜互连抛光液和其磨料的制备方法

具有压力缓冲作用的铜互连抛光液和其磨料的制备方法

页面导航

摘要
著录项
法律信息
相似文献

摘要

本发明为具有压力缓冲作用的铜互连抛光液和其磨料的制备方法，该抛光液的组成包含：磨料、至少一种氧化剂、至少一种表面活性剂、至少一种络合剂，所述磨料包括多孔SiO2空心微球，多孔SiO2空心微球的粒径尺寸为80‑180nm。该抛光液中引入多孔SiO2空心微球，能通过空心二氧化硅受压力产生形变，从而对凸凹处的压力不同，来消除碟形，实现铜表面的平坦化。

著录项

公开/公告号CN114106706A

专利类型发明专利
公开/公告日2022-03-01

原文格式PDF
申请/专利权人博力思(天津)电子科技有限公司;
展开▼

申请/专利号CN202111594180.7
发明设计人宋英英;王晗笑;姜鉴哲;付聚三;刘圆;张琳;
展开▼

申请日2021-12-24
分类号C09G1/02(20060101);C09K3/14(20060101);C01B33/16(20060101);H01L21/321(20060101);
代理机构12210 天津翰林知识产权代理事务所(普通合伙);
代理人付长杰
地址 300350 天津市津南区咸水沽镇聚兴道9号4号楼一层
入库时间 2023-06-19 14:22:08

法律信息

法律状态公告日

法律状态信息

法律状态
2022-03-01

公开

发明专利申请公布

相似文献

专利
中文文献
外文文献

1. 具有压力缓冲作用的铜互连抛光液和其磨料的制备方法 [P] . 中国专利： CN114106706A . 2022-03-01
2. 用于降低多层铜互连阻挡层CMP缺陷的碱性抛光液及其制备方法 [P] . 中国专利： CN111004579B . 2021.08.06
3. COBALT-CONTAINING DOPED SILICON DIOXIDE NANO-COMPOSITE ABRASIVE GRAIN SOL, POLISHING SOLUTION AND PREPARATION METHOD THEREOF [P] . 世界知识产权组织专利： WO2016150176A1 . 2016-09-29

机译：含钴的掺杂二氧化硅纳米复合磨料颗粒溶胶，抛光液及其制备方法
4. NONWOVEN ABRASIVE ARTICLES HAVING ELECTROSTATICALLY-ORIENTED ABRASIVE PARTICLES AND METHODS OF MAKING SAME [P] . US2021283749A1 . 2021-09-16

机译：具有静电磨料颗粒的非织造磨料制品及其制备方法
5. METHOD FOR PREPARING COATED ABRASIVE HAVING THREE-DIMENSIONAL ABRASIVE STRUCTURE [P] . IN273801B . 2016-07-01

机译：具有三维磨料结构的涂层磨料的制备方法