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公开/公告号CN114136754A
专利类型发明专利
公开/公告日2022-03-04
原文格式PDF
申请/专利权人 中国航发北京航空材料研究院;
申请/专利号CN202111179113.9
发明设计人 李楠;王曦;刘昌奎;周静怡;王剑;
申请日2021-10-09
分类号G01N3/02(20060101);G01N3/06(20060101);G01N3/08(20060101);G01N3/42(20060101);
代理机构11008 中国航空专利中心;
代理人穆环宇
地址 100095 北京市海淀区北京市81号信箱
入库时间 2023-06-19 14:23:39
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2022-03-04
公开
发明专利申请公布
机译: 使用电子背散射衍射(EBSD)鉴定核电厂沉积物中的痕量组成相
机译: 电子显微镜,特别是用于电子背散射衍射过程的扫描电子显微镜,包括用于对样品的晶体结构进行非破坏性确定的非破坏性确定单元。
机译: 基于纳米技术的减缓粉末成分(版本),基于纳米技术的润滑剂成分和基于纳米技术的润滑方法
机译:电子背散射衍射和纳米压痕技术识别双相(DP980)钢
机译:多通道管状通道角挤压工艺处理的纳米结构铝管的电子背散射衍射和纳米压痕分析
机译:冷喷涂涂层的微观结构和纳米硬度:电子背散射衍射和纳米压痕研究
机译:用高晶格缺陷密度使用高分辨率电子背散射衍射对局部电子背散射衍射的局部相变的研究
机译:使用飞行时间中子衍射和电子背散射衍射进行定量纹理分析。
机译:化学计量比Bi2Te3纳米线的脉冲电流-电压电沉积及其通过透射电子背散射衍射的晶体学表征
机译:复古突出电子衍射技术的原理和应用(EBSD,电子背散射衍射)
机译:蒙特卡罗模拟电子背散射衍射(EBsD)的空间分辨率应用于两相材料