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感光化射线性或感放射线性树脂组合物、感光化射线性或感放射线性膜、图案形成方法及电子器件的制造方法

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本发明提供一种能够形成抑制灵敏度降低且对基板的密合性(特别是干燥状态下的密合性)优异的感光化射线性或感放射线性膜的感光化射线性或感放射线性树脂组合物、以及使用上述感光化射线性或感放射线性树脂组合物的感光化射线性或感放射线性膜、图案形成方法及电子器件的制造方法。感光化射线性或感放射线性树脂组合物含有(A)通过酸的作用而极性增大的树脂、(B)光产酸剂、(P)氧化胺及(D)酸扩散控制剂(其中，相当于氧化胺的除外)，相对于感光化射线性或感放射线性树脂组合物的总质量，上述氧化胺(P)的含量为0.01ppm以上且1000ppm以下，上述酸扩散控制剂(D)相对于上述氧化胺(P)的质量比率大于1且为10000以下。

著录项

公开/公告号CN114207526A

专利类型发明专利
公开/公告日2022-03-18

原文格式PDF
申请/专利权人富士胶片株式会社;
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申请/专利号CN202080054129.4
发明设计人畠山直也;米久田康智;富贺敬充;东耕平;吉野文博;
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申请日2020-08-12
分类号G03F7/085(20060101);G03F7/038(20060101);G03F7/039(20060101);G03F7/004(20060101);G03F7/09(20060101);G03F7/00(20060101);
代理机构11021 中科专利商标代理有限责任公司;
代理人薛海蛟
地址日本国东京都
入库时间 2023-06-19 14:32:54

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2022-03-18

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