公开/公告号CN115151864A
专利类型发明专利
公开/公告日2022-10-04
原文格式PDF
申请/专利权人 富士胶片株式会社;
申请/专利号CN202180016486.6
申请日2021-02-16
分类号G03F7/004;C07D327/02;C07D327/04;C07D327/06;C07D327/10;C07D339/00;C07D339/08;C07D279/10;C09K3/00;G03F7/038;G03F7/039;G03F7/20;C07D277/32;C07C309/04;C07C309/08;C07C309/12;C07C309/17;C07C309/19;C07C311/02;C07C313/04;
代理机构中科专利商标代理有限责任公司;
代理人薛海蛟
地址 日本国东京都
入库时间 2023-06-19 17:02:55
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2022-10-04
公开
国际专利申请公布
机译: 光化射线或放射线敏感性树脂组合物,光化射线或放射线敏感性膜,具有光化射线或放射线敏感性膜的掩模坯料,图案形成方法,电子器件的制造方法,电子器件及化合物
机译: 图案形成方法,感测动态射线或放射线敏感性树脂组合物,感测动态射线或放射线敏感性膜,电子设备的制造方法和电子设备
机译: 用于半导体器件制造工艺的树脂的制造方法,树脂的制造方法,树脂的制造方法,光化射线敏感性或放射线敏感性树脂组合物,以及光化射线敏感性或放射线性树脂-