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湿法制程储液槽和湿法制程装置

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本发明实施例提供一种湿法制程储液槽和湿法制程装置，包括：液槽体，液槽体包括槽底、槽壁和槽顶，槽底、槽壁和槽顶围裹形成一液槽腔体，液槽腔体用于容置药液；供药管，与槽壁或槽底连通、用于将液槽腔体内的药液导出；回流管，与槽顶连通、用于接收湿法制程后回流的药液；储液槽还包括排气管，用于平衡液槽腔体内的气压；液槽腔体内设置气泡阻隔件，气泡阻隔件设置在供药管和回流管之间、用于阻制气泡由回流管附近传至供药管附近；进而避免气泡随药液进入湿制工作室中附着在显示基板表面、对制程均匀性造成干扰，影响显示基板性能的可信赖性。

著录项

公开/公告号CN115312429A

专利类型发明专利
公开/公告日2022-11-08

原文格式PDF
申请/专利权人赫曼半导体技术(深圳)有限公司;
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申请/专利号CN202210962621.2
发明设计人郭裕隆;廖仁瑞;付恒野;
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申请日2022-08-11
分类号H01L21/67;
代理机构北京晟睿智杰知识产权代理事务所(特殊普通合伙);
代理人于淼
地址 518110 广东省深圳市龙华区观湖街道观城社区大和村603号1503
入库时间 2023-06-19 17:30:31

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法律状态公告日

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法律状态
2022-11-08

公开

发明专利申请公布

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