法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2022-11-18
公开
国际专利申请公布
机译: 光化射线或放射线敏感性树脂组合物,光化射线或放射线敏感性膜,具有光化射线或放射线敏感性膜的掩模坯料,光掩模,图案形成方法,电子设备的制造方法,电子设备,化合物及其制备方法
机译: 光化射线或放射线敏感性树脂组合物,光化射线或放射线敏感性膜,具有光化射线或放射线敏感性膜的掩模坯料,光掩模,图案形成方法,电子设备的制造方法以及电子设备
机译: 光化射线或放射线敏感性树脂组合物,光化射线或放射线敏感性膜,具有光化射线或放射线敏感性膜的掩模坯料,图案形成方法,电子器件的制造方法,电子器件及化合物