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异吲哚类的制造方法以及利用异吲哚类的制造方法制造的异吲哚类

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本发明的目的在于提供一种异吲哚类的制造方法，该方法可采用能够实现工业实用化的条件，获得稳定的异吲哚类，并且能够以高收率获得异吲哚类。为此，本发明通过实施具有下述热处理步骤的异吲哚类的制造方法来解决上述问题，所述热处理步骤是将分子内具有稠合有双环[2.2.2]辛二烯骨架的吡咯结构的化合物保持于超临界二氧化碳气体氛围中的步骤。此时的热处理步骤优选在50℃以上且300℃以下进行。

著录项

公开/公告号CN101983189B

专利类型发明专利
公开/公告日2013-08-07

原文格式PDF
申请/专利权人国立大学法人宇都宫大学;
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申请/专利号CN200880128470.9
发明设计人伊藤智志;伊藤直次;佐藤刚史;
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申请日2008-12-24
分类号
代理机构北京市柳沈律师事务所;
代理人张平元
地址日本栃木县
入库时间 2022-08-23 09:15:34

法律信息

法律状态公告日

法律状态信息

法律状态
2018-12-11

未缴年费专利权终止 IPC(主分类):C07D 209/44 授权公告日:20130807 终止日期:20171224 申请日:20081224

专利权的终止
2013-08-07

授权

授权
2013-08-07

授权

授权
2011-04-13

实质审查的生效 IPC(主分类):C07D209/44 申请日:20081224

实质审查的生效
2011-04-13

实质审查的生效 IPC(主分类):C07D 209/44 申请日:20081224

实质审查的生效
2011-03-02

公开

公开
2011-03-02

公开

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