首页> 中国专利> 用于在掩模布局中布置亚分辨辅助特征的方法以及确定一个或更多个特征的位置的方法

用于在掩模布局中布置亚分辨辅助特征的方法以及确定一个或更多个特征的位置的方法

页面导航

摘要
著录项
法律信息
相似文献

摘要

本发明公开一种用以产生有效的基于模型的亚分辨辅助特征(MB-SRAF)的方法。产生SRAF引导图，其中每个设计目标边缘位置为给定场点表决有关布置在该场点上的单像素SRAF将改善还是弱化整个过程窗口的空间图像。在一个实施例中，SRAF引导图被用于确定SRAF布置规则和/或用于微调已经布置的SRAFs。SRAF引导图可以直接用于在掩模布局中布置SRAFs。可以产生包括SRAFs的掩模布局数据，其中根据SRAFs引导图布置SRAFs。SRAF引导图可以包括这样的图像：即，在所述图像中如果像素被包括作为亚分辨辅助特征的一部分，每个像素值指示所述像素将是否对所述掩模布局中的特征的边缘行为提供正面贡献。

著录项

公开/公告号CN102566254B

专利类型发明专利
公开/公告日2014-02-26

原文格式PDF
申请/专利权人 ASML荷兰有限公司;
展开▼

申请/专利号CN201210031236.2
发明设计人叶军;曹宇;冯函英;
展开▼

申请日2008-06-03
分类号G03F1/38(20120101);G03F1/36(20120101);G03F7/20(20060101);
代理机构11021 中科专利商标代理有限责任公司;
代理人吴敬莲
地址荷兰维德霍温
入库时间 2022-08-23 09:17:57

法律信息

法律状态公告日

法律状态信息

法律状态
2014-02-26

授权

授权
2012-09-12

实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 1/38 申请日:20080603

实质审查的生效
2012-07-11

公开

公开

相似文献

专利
中文文献
外文文献

1. 用于在掩模布局中布置亚分辨辅助特征的方法以及确定一个或更多个特征的位置的方法 [P] . 中国专利： CN102566254B . 2014.02.26
2. 确定掩模布局中改善的辅助特征配置的方法和装置 [P] . 中国专利： CN1828613A . 2006-09-06
3. Method of verifying the placement of sub-resolution assist features in a photomask layout [P] . 美国专利： US7018746B2 . 2006-03-28

机译：验证亚分辨率辅助特征在光掩模布局中的位置的方法
4. Method for incorporating sub resolution assist features in a photomask layout [P] . 美国专利： US6413683B1 . 2002-07-02

机译：在光掩模布局中合并辅助分辨率辅助特征的方法
5. Methods for creating and storing an identifier for a Watch that has at least a precious stoneID associated with at least one or more characteristics of at least a precious stone and the respective relative position and store the identifier in a database; and Methods for authentication or identification of a clock; Systems for determining an identifier of a Watch That's at least a precious stone; and a clock and watch Manufacturing method [P] . CL2014002061A1 . 2014-12-05

机译：用于创建和存储具有至少与至少宝石的至少一个或多个特征相关联的至少一个宝石ID的宝石ID的手表的标识符以及相应的相对位置并将标识符存储在数据库中的方法;和时钟认证或标识的方法;确定手表标识符的系统至少是一块宝石;和钟表的制造方法