法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2015-01-07
授权
授权
2012-09-26
实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 23/00 申请日:20120129
实质审查的生效
2012-08-01
公开
公开
机译: 制造半导体器件的方法,制造具有半导体元件的半导体晶片的方法,制造具有粘性层的半导体晶片的方法以及制造半导体晶片层叠体的方法
机译: 半导体器件制造方法,具有粘合层制造方法的半导体晶片,具有半导体元件制造方法的半导体晶片以及半导体晶片叠层制造方法
机译: 半导体器件制造方法,具有粘合层制造方法的半导体晶片,具有半导体元件制造方法的半导体晶片以及半导体晶片叠层制造方法