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一种二通道声学多普勒流速剖面仪的密封结构

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本实用新型提供了一种二通道声学多普勒流速剖面仪的密封结构，其包括：压力传感器放置槽，所述放置槽具备有设置在所述剖面仪侧壁外表面上的第一开口以及设置在所述剖面仪侧壁内表面的第二开口，所述放置槽包括沿所述第二开口到第一开口方向同轴设置的底面面积逐渐增大的第一阶梯槽、第二阶梯槽以及第三阶梯槽；第一密封圈，套设于卡接在所述第二开口上的压力传感器；第二密封圈，容纳在所述第二阶梯槽内；第三密封圈，容纳在所述第三阶梯槽内；密封盖板，盖合所述阶梯槽的第一开口并将所述第一密封圈、第二密封圈压紧在所述放置槽内，所述密封结构设置有多层密封，实现了二通道声学多普勒流速剖面仪适应更深水下作业的可能。

著录项

公开/公告号CN212433207U

专利类型实用新型
公开/公告日2021-01-29

原文格式PDF
申请/专利权人上海衡谱科技有限公司;
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申请/专利号CN202021478397.2
发明设计人杨俊莱;
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申请日2020-07-23
分类号G01P5/24(20060101);G01P1/00(20060101);
代理机构31219 上海光华专利事务所(普通合伙);
代理人黄婧
地址 201500 上海市金山区卫昌路293号2幢11670室
入库时间 2022-08-22 19:24:35

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