公开/公告号CN213266683U
专利类型实用新型
公开/公告日2021-05-25
原文格式PDF
申请/专利权人 昆山浦元真空技术工程有限公司;
申请/专利号CN202020456437.7
发明设计人 成林;
申请日2020-04-01
分类号C23C14/35(20060101);C03C17/00(20060101);
代理机构32311 昆山中际国创知识产权代理有限公司;
代理人尤天珍
地址 215300 江苏省苏州市昆山市张浦镇俱巷路136号3号房
入库时间 2022-08-22 21:42:50
机译: 输入设备例如车辆驾驶舱中的触摸板,具有可磁化或磁性的元件,其位置相对于输入表面发生变化,从而使模具表面发生变化,从而在高度和输入位置产生局部差异
机译: 磁控溅射设备,用于执行基于真空的物理气相沉积,以用目标材料涂覆基板,该设备包括将等离子体集中在目标表面上的磁体组件,并包括液压致动器
机译: 在物理气相沉积过程中从目标表面选择性地吸引或排斥离子材料的方法和设备