公开/公告号CN215630107U
专利类型实用新型
公开/公告日2022-01-25
原文格式PDF
申请/专利权人 中化岩土集团股份有限公司;
申请/专利号CN202122253979.1
申请日2021-09-17
分类号E02D29/02(20060101);E02D17/20(20060101);
代理机构31214 上海申蒙商标专利代理有限公司;
代理人黄明凯
地址 102600 北京市大兴区大兴工业开发区科苑路13号
入库时间 2022-08-23 04:14:06
机译: 一种制造基于氮化物的复合半导体基质的方法以及一种基于氮化物的复合半导体自基质
机译: 复合层系统,一种基于氨基质体将一层或多层开孔泡沫附着到基材上的过程,或生产复合层系统,并使用复合层系统,以及使用一种或多种泡沫细胞层更多。在氨基塑料开放的基础上
机译: 包含抛光剂,氧化剂的金属CMP抛光组合物,至少一种是选自基于聚(羧酸)的共聚物或其盐,基于磷酸的化合物和基于硫磺酸的化合物,以及阴离子的复合剂,以及一种方法组成的金属