法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2018-03-20
授权
授权
2014-04-09
实质审查的生效 IPC(主分类):G03F7/09 申请日:20121227
实质审查的生效
2014-03-12
公开
公开
机译: 用于制作抗蚀膜的有机处理液,用于制作抗蚀膜的有机处理液的方法,用于制作抗蚀膜的有机处理液的储存容器,使用其的图案形成方法以及电子制造方法
机译: 辐射敏感树脂组合物,形成抗蚀图案和光致抗蚀膜的方法
机译: 衰减射线敏感或辐射敏感的树脂组合物,抗蚀膜,图案形成方法,带有抗蚀膜的掩膜空白,制造光掩模的方法以及制造电子设备的方法