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IP核检测版图、版图设计系统及版图设计方法

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一种IP核检测版图、版图设计系统及版图设计方法，所述IP核检测版图，包括：IP核版图，所述IP核版图中位于中间位置的版图被去除，只保留IP核版图中位于边缘区域的版图，使得所述IP核检测版图的形状为环形，且所述IP核检测版图内圈边缘到IP核检测版图外圈边缘的间距范围大于或等于当前不同电路结构之间的最大间距设计规则。利用所述IP核检测版图和周围电路版图相结合进行设计规则检测，如果发现IP核检测版图和周围电路版图有冲突，可以立即对周围电路版图进行修改，节省了片上系统的设计时间，且IP核用户只能获得边缘区域的版图，无法通过所述IP核检测版图获得整个IP核的电路或版图，依然利于保护IP核的知识产权。

著录项

公开/公告号CN102880763B

专利类型发明专利
公开/公告日2018-07-31

原文格式PDF
申请/专利权人上海华虹宏力半导体制造有限公司;
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申请/专利号CN201210396347.3
发明设计人许丹;
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申请日2012-10-17
分类号
代理机构北京集佳知识产权代理有限公司;
代理人骆苏华
地址 201203 上海市浦东新区张江高科技园区祖冲之路1399号
入库时间 2022-08-23 10:14:49

法律信息

法律状态公告日

法律状态信息

法律状态
2018-07-31

授权

授权
2014-07-30

实质审查的生效 IPC(主分类):G06F17/50 申请日:20121017

实质审查的生效
2014-06-11

专利申请权的转移 IPC(主分类):G06F17/50 变更前: 变更后: 登记生效日:20140513 申请日:20121017

专利申请权、专利权的转移
2013-01-16

公开

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外文文献

1. IP核检测版图、版图设计系统及版图设计方法 [P] . 中国专利： CN102880763B . 2018.07.31
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