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光学邻近校正方法以及优化光学邻近校正模型的方法

摘要

一种光学邻近校正方法以及优化光学邻近校正模型的方法,其中光学邻近校正方法包括:提供包括第一区域、第二区域和第三区域的衬底,第一区域和第二区域的衬底为第一材料层以及第二材料层的叠层结构,第三区域的衬底为第一材料层,且第二材料层的材料的透光率大于第一材料层的材料的透光率;提供目标图形;获取衬底第一区域、第二区域和第三区域的空间像光强函数;基于获取的空间像光强函数建立光学邻近校正模型,依据光学邻近校正模型对所述目标图形进行光学邻近校正。本发明考虑到衬底内隔离结构对曝光显影的影响,建立光学邻近校正模型,使得在衬底表面形成的最终图形与目标图形之间的差异性小,提高了形成的最终图形的质量。

著录项

  • 公开/公告号CN104977797B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2019-04-26

    原文格式PDF

  • 申请/专利号CN201410131227.X

  • 发明设计人 程仁强;王辉;

    申请日2014-04-02

  • 分类号G03F1/36(20120101);

  • 代理机构11227 北京集佳知识产权代理有限公司;

  • 代理人骆苏华

  • 地址 201203 上海市浦东新区张江路18号

  • 入库时间 2022-08-23 10:30:19

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-03-27

    专利权的转移 IPC(主分类):G03F1/36 登记生效日:20200310 变更前: 变更后: 申请日:20140402

    专利申请权、专利权的转移

  • 2019-04-26

    授权

    授权

  • 2019-04-26

    授权

    授权

  • 2015-11-18

    实质审查的生效 IPC(主分类):G03F1/36 申请日:20140402

    实质审查的生效

  • 2015-11-18

    实质审查的生效 IPC(主分类):G03F1/36 申请日:20140402

    实质审查的生效

  • 2015-11-18

    实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 1/36 申请日:20140402

    实质审查的生效

  • 2015-10-14

    公开

    公开

  • 2015-10-14

    公开

    公开

  • 2015-10-14

    公开

    公开

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