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双工件台柔性卷带曝光装置及曝光方法

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本发明提供一种双工件台柔性卷带曝光装置及曝光方法，两个工件台分别位于曝光区和测量区时可以同步对柔性卷带执行测量和曝光，完成测量和曝光后，两个工件台移动以切换工作区，在工件台移动的过程中控制模块根据测量模块测量的对位数据和/或焦面测量数据控制光罩调整模块对光罩进行调整，并在测量区的柔性卷带到达曝光区后控制曝光模块对曝光区的柔性卷带进行曝光。本发明采用双工件台并行的模式，测量区的工件台上的柔性卷带进行对位和/或焦面测量时，曝光区的工件台上柔性卷带进行同步曝光，在切换工作区过程中，完成对光罩的调整，双工件台同时对柔性卷带进行处理，合理利用时间，减少曝光工序的耗时，有利于提高产能。

著录项

公开/公告号CN109856925B

专利类型发明专利
公开/公告日2020-01-24

原文格式PDF
申请/专利权人上海微电子装备(集团)股份有限公司;
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申请/专利号CN201910225041.3
发明设计人李志丹;陈勇辉;李会丽;
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申请日2019-03-22
分类号G03F7/20(20060101);
代理机构31295 上海思捷知识产权代理有限公司;
代理人王宏婧
地址 201203 上海市浦东新区张东路1525号
入库时间 2022-08-23 10:49:10

法律信息

法律状态公告日

法律状态信息

法律状态
2020-01-24

授权

授权
2019-07-02

实质审查的生效 IPC(主分类):G03F7/20 申请日:20190322

实质审查的生效
2019-07-02

实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/20 申请日:20190322

实质审查的生效
2019-06-07

公开

公开
2019-06-07

公开

公开
2019-06-07

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