公开/公告号CN106030417B
专利类型发明专利
公开/公告日2020-02-28
原文格式PDF
申请/专利权人 东京毅力科创株式会社;国立大学法人大阪大学;
申请/专利号CN201580009168.1
申请日2015-02-17
分类号G03F7/38(20060101);G03F7/004(20060101);G03F7/038(20060101);G03F7/039(20060101);G03F7/11(20060101);H01L21/027(20060101);
代理机构72002 永新专利商标代理有限公司;
代理人白丽;陈建全
地址 日本东京都
入库时间 2022-08-23 10:51:31
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2020-02-28
授权
授权
2016-11-09
实质审查的生效 IPC(主分类):G03F7/38 申请日:20150217
实质审查的生效
2016-11-09
实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/38 申请日:20150217
实质审查的生效
2016-10-12
公开
公开
2016-10-12
公开
公开
机译: 光敏化学放大抗蚀剂材料,使用该抗蚀剂材料的图案形成方法,半导体器件,光刻掩模和纳米压印模板的制造方法
机译: 光敏化学放大抗蚀剂材料,使用该抗蚀剂材料的图案形成方法,半导体器件,光刻掩模和纳米压印模板的制造方法
机译: 光敏化学放大型抗蚀剂材料,使用该抗蚀剂材料形成图案的方法,半导体器件,用于光刻的掩模和用于纳米压印的模板