首页> 中国专利> 具有非凹陷的场绝缘体和场绝缘体上方的较薄电极的三栅极晶体管结构

具有非凹陷的场绝缘体和场绝缘体上方的较薄电极的三栅极晶体管结构

摘要

讨论了涉及具有MOSFET的集成电路的技术、结合有这样的集成电路的系统、以及用于形成它们的方法,所述MOSFET具有非凹陷的场绝缘体和IC的场绝缘体上方的较薄电极。

著录项

  • 公开/公告号CN105190898B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-03-17

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 英特尔公司;

    申请/专利号CN201380076405.7

  • 发明设计人 M·L·哈藤多夫;P·保蒂;M·K·哈珀;

    申请日2013-06-26

  • 分类号H01L29/78(20060101);H01L21/336(20060101);

  • 代理机构72002 永新专利商标代理有限公司;

  • 代理人王英;陈松涛

  • 地址 美国加利福尼亚

  • 入库时间 2022-08-23 10:52:48

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-03-17

    授权

    授权

  • 2016-06-22

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L29/78 申请日:20130626

    实质审查的生效

  • 2016-06-22

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 29/78 申请日:20130626

    实质审查的生效

  • 2015-12-23

    公开

    公开

  • 2015-12-23

    公开

    公开

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