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一种基于磁场辅助的非牛顿流体增稠抛光方法及抛光系统

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本发明公开了一种基于磁场辅助的非牛顿流体增稠的抛光方法，包括以下步骤：S1：将具有磁流变特性的非牛顿流体抛光液加入抛光液槽中，再通过一带驱动系统的夹持装置使抛光工件浸泡于上述非牛顿流体抛光液中，并开启磁场发生装置；S2：在上述驱动系统的作用下，夹持装置带动抛光工件转动使抛光工件与非牛顿流体抛光液发生相对运动，非牛顿流体抛光液中的磨粒对抛光工件表面进行切削，即完成抛光过程。本发明还相应提供一种基于磁场辅助的非牛顿流体增稠的抛光系统。本发明的耗材成本低、抛光效率高、抛光效果好、可以实现抛光工件的超精密抛光。

著录项

公开/公告号CN109079590B

专利类型发明专利
公开/公告日2020-06-05

原文格式PDF
申请/专利权人湖南大学;
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申请/专利号CN201811160460.5
发明设计人黄向明;明阳;周志雄;
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申请日2018-09-30
分类号B24B1/00(20060101);
代理机构43213 长沙朕扬知识产权代理事务所(普通合伙);
代理人钱朝辉
地址 410000 湖南省长沙市岳麓区麓山南路麓山门
入库时间 2022-08-23 11:00:44

法律信息

法律状态公告日

法律状态信息

法律状态
2020-06-05

授权

授权
2019-01-18

实质审查的生效 IPC(主分类):B24B1/00 申请日:20180930

实质审查的生效
2018-12-25

公开

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1. 一种基于磁场辅助的非牛顿流体增稠抛光方法及抛光系统 [P] . 中国专利： CN109079590B . 2020.06.05
2. 一种基于磁场辅助的非牛顿流体增稠抛光方法及抛光系统 [P] . 中国专利： CN109079590A . 2018-12-25
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