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用于评估光刻中的多次曝光工艺的结果的方法

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一种评估多次曝光光刻工艺的工艺结果的方法，首先独立地确定多次曝光工艺的各曝光步骤或工艺的一组期望图像(组1，组2)，然后通过由来自后面的曝光步骤的加权图像(组2)调整来自第一或在前的曝光步骤的图像(组1)，来获得复合图像组(最终组)。优选，通过在各曝光步骤的散焦范围上以标准化空间图像的形式进行模拟，来确定期望的图像，所使用的加权因数为后面的曝光剂量与前面步骤的曝光剂量的剂量比值。可以使用最终的复合图像组来评估多次曝光光刻工艺，例如，对于给定的剂量和焦距误差预计来提供产量评估，或可选的是，提供用于实现获得目标产量所需的工具误差预计的规格。

著录项

公开/公告号CN100410809C

专利类型发明授权
公开/公告日2008-08-13

原文格式PDF
申请/专利权人国际商业机器公司;
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申请/专利号CN200480012873.9
发明设计人 C·A·丰塞卡;S·J·布科夫斯基;黎家辉;
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申请日2004-05-19
分类号G03C5/00(20060101);G03F9/00(20060101);
代理机构11247 北京市中咨律师事务所;
代理人于静;李峥
地址美国纽约
入库时间 2022-08-23 09:00:54

法律信息

法律状态公告日

法律状态信息

法律状态
2012-07-11

未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G03C 5/00 授权公告日:20080813 终止日期:20110519 申请日:20040519

专利权的终止
2008-08-13

授权

授权
2006-08-09

实质审查的生效

实质审查的生效
2006-06-14

公开

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专利
中文文献
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1. 用于评估光刻中的多次曝光工艺的结果的方法 [P] . 中国专利： CN100410809C . 2008.08.13
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机译：评估光刻中多次曝光工艺效果的方法
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机译：光刻工艺利润率评估装置，光刻工艺利润率评估方法和光刻工艺利润率评估程序