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一种双层复合SiO2减反射膜的制备方法

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摘要

本发明公开了一种双层复合SiO2减反射膜的制备方法，将硅源加入至无水乙醇、盐酸和水的混合液中，于室温下搅拌均匀后静置数天，得到酸催化的SiO2溶胶A；将硅源加入至无水乙醇、氨水和水的混合液中，于室温下搅拌均匀后静置数天，得到碱催化的SiO2溶胶B；将SiO2溶胶A和步骤2制得的SiO2溶胶B分别除酸和除氨，得到SiO2溶胶A1和SiO2溶胶B1；将SiO2溶胶A1和SiO2溶胶B按照质量比1∶4进行混合，将SiO2溶胶A和SiO2溶胶B1按照质量比2∶3进行混合，搅拌均匀后静置数天，分别得到复合溶胶S‑20％和S‑40％；在相对湿度环境＜50％的环境下，将经过预处理的基底浸入复合溶胶S‑40％中进行镀膜，将镀膜的基底静置数分钟，再将基底浸入复合溶胶S‑20％中进行镀膜；最后将镀有双层膜的基底置于HMDS气氛中处理即可。

著录项

  • 公开/公告号CN108623185B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-11-23

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 中国工程物理研究院激光聚变研究中心;

    申请/专利号CN201810513506.0

  • 发明设计人 陶朝友;邹鑫书;

    申请日2018-05-25

  • 分类号C03C17/23(20060101);

  • 代理机构32204 南京苏高专利商标事务所(普通合伙);

  • 代理人李倩

  • 地址 621999 四川省绵阳市游仙区科学城919信箱987分箱

  • 入库时间 2022-08-23 12:51:19

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